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ラボでの晶析スケールアップトラブル解決法

ラボでの晶析スケールアップトラブル解決法

~濾過性の改善、個体移動改良、結晶多形制御、粒度分布のコントロールができる!~
東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2013年4月22日(月) 13時00分16時30分

受講対象者

  • 実験、晶析、スケールアップに関連する技術者、担当者、管理者

修得知識

  • スケールアップの基礎
  • 晶析の基礎

プログラム

 企業化の際、トラブルが多い操作は反応が1番で次が晶析関連であろう。トラブルの種類としては、濾過不良、個体移動の不良、粒度分布、結晶多形の制御、壁付着などがあるがいずれも解決可能と思っている。濾過不良はスケールアップトラブルではなくラボトラブルのケースが圧倒的である。
 結晶性状のコントロール手法は私の考えた滴下晶析、30%晶析法を使い分け、できない晶析はないと思っている。ただし実験数は多いので、実験の速さが必要でありそれが研究員の能力である。
製造研究として晶析工程は装置高くなり、生産性が悪くなるのでなるべく晶析を省くことが大きな目的であるが、大抵の製品が個体なので最終工程は晶析工程が入る。

  1. 晶析工程は製品価格が高くなる
    • 装置が多くなり設備費が高い
    • 生産性が悪くなり製品価格が高くなる
    • 濾過器は高価でしかも危険である
  2. 滴下晶析
    • 結晶多形の分別晶析
    • 粒度分布のコントロール
    • 難濾過性の改善 (きわめて有力)
    1. %晶析法
      • 結晶多形の分別晶析
      • 粒度分布のコントロール (きわめて有力)
      • 応用範囲が広い
  3. 壁付着回避
    • 還流晶析法が有力
    • 突っついて落とす古典的手法はあまり使わない方がよい
  4. 晶析実験
    • 溶解度測定 分析で1日
    • 小さな実験のしかた
    • パイロット実験のしかた

  • 質疑応答・名刺交換

講師

会場

大田区産業プラザ PiO

6F C会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図

主催

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受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

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