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2025/4/25 |
「洗浄バリデーション」「マルチパーパス設備洗浄評価基準」コース |
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オンライン |
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2025/4/25 |
洗浄バリデーションにおける「残留許容値の設定」「ホールドタイム (DHT/CHT/SDT/SHT) の留意点」「ワーストケースロケーション (WCL) とスワブ数の例」「回収率テストの事例」 |
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オンライン |
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2025/4/30 |
自動車の電動化に向けたシリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 |
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オンライン |
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2025/5/7 |
クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際 |
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オンライン |
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2025/5/12 |
「洗浄バリデーション」「マルチパーパス設備洗浄評価基準」コース |
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オンライン |
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2025/5/12 |
高薬理活性物質を扱うマルチパーパス設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 |
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オンライン |
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2025/5/13 |
医薬品不純物管理のための許容量 (PDE) 設定の基礎と実践 |
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オンライン |
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2025/5/14 |
洗浄バリデーションにおける「残留許容値の設定」「ホールドタイム (DHT/CHT/SDT/SHT) の留意点」「ワーストケースロケーション (WCL) とスワブ数の例」「回収率テストの事例」 |
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オンライン |
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2025/5/14 |
Roll To Rollにおけるフィルム乾燥の基礎と実践、設備設計と面状トラブル対策 |
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オンライン |
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2025/5/15 |
外観目視検査員教育法と見逃し・バラツキ低減技術 |
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オンライン |
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2025/5/15 |
超音波洗浄のメカニズムと機器選定・洗浄評価法 |
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オンライン |
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2025/5/15 |
世界半導体産業への羅針盤 |
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オンライン |
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2025/5/16 |
DXとGXを支える次世代半導体実装用樹脂・基板材料の開発と技術動向 |
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オンライン |
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2025/5/19 |
GMP査察・監査に対応したペストコントロールプログラムの開発と課題への対処 |
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オンライン |
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2025/5/19 |
研磨プロセスの見える化と最適化およびアシスト加工 |
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オンライン |
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2025/5/21 |
GMP工場の設備設計および維持管理のポイント |
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オンライン |
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2025/5/21 |
超音波洗浄のメカニズムと機器選定・洗浄評価法 |
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オンライン |
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2025/5/21 |
Roll To Rollにおけるフィルム乾燥の基礎と実践、設備設計と面状トラブル対策 |
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オンライン |
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2025/5/22 |
ハイブリッドボンディングに向けた要素技術、材料開発動向と今後の展望 |
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オンライン |
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2025/5/22 |
フォノンエンジニアリングの基礎と半導体熱マネジメント技術 |
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オンライン |
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2025/5/22 |
半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2025年版) |
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オンライン |
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2025/5/23 |
バイオ医薬品の製造ラインにおける洗浄バリデーション実施・残留限度値設定と実状・課題への対応 |
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オンライン |
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2025/5/23 |
半導体パッケージの作製プロセスとその課題および最新技術動向 |
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オンライン |
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2025/5/26 |
外観目視検査員教育法と見逃し・バラツキ低減技術 |
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オンライン |
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2025/5/27 |
半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策 |
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オンライン |
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2025/5/27 |
クリーンルームの基礎と異物対策技術および局所クリーン環境構築の実践ノウハウ |
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オンライン |
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2025/5/27 |
過渡熱抵抗測定の基礎と測定ノウハウおよび構造関数の活用方法 |
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オンライン |
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2025/5/28 |
GMP工場の設備設計および維持管理のポイント |
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オンライン |
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2025/5/28 |
クリーンルームの作業員教育、設備・備品の管理・運用とクリーン化のノウハウ |
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オンライン |
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2025/5/29 |
半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 |
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オンライン |