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「半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/6/5 他社特許分析の実務と生成AIを使った効率化、"強い" 特許を得るための考え方・具体的方法 オンライン
2026/6/5 半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策 オンライン
2026/6/8 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/8 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/10 特許出願書類作成における権利範囲設定の考え方と留意点 オンライン
2026/6/12 半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 オンライン
2026/6/12 日本の特許審査における拒絶理由通知への対応力向上ノウハウ オンライン
2026/6/15 日本の特許審査における拒絶理由通知への対応力向上ノウハウ オンライン
2026/6/16 不実施補償の考え方、交渉ポイントと共同開発契約の進め方 オンライン
2026/6/17 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/17 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/17 後発医薬品の市場参入を加速させる特許戦略 オンライン
2026/6/19 特許出願書類作成における権利範囲設定の考え方と留意点 オンライン
2026/6/25 不実施補償の考え方、交渉ポイントと共同開発契約の進め方 オンライン
2026/6/26 医薬品の知財制度と特許戦略 入門講座 オンライン
2026/6/29 医薬品の知財制度と特許戦略 入門講座 オンライン
2026/7/2 後発医薬品の市場参入を加速させる特許戦略 オンライン
2026/7/14 拒絶理由通知対応の実務ポイントと先を見据えた戦略的権利化 オンライン
2026/7/23 共同研究開発契約の実務と重要ポイント、トラブル対策 オンライン
2026/7/24 共同研究開発契約の実務と重要ポイント、トラブル対策 オンライン
2026/7/24 2nm世代以降の先端半導体配線技術の最新動向 オンライン

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発行年月
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2024/3/29 後発で勝つための研究・知財戦略と経営層への説明・説得の仕方
2024/3/11 アリババ (阿里巴巴 Alibaba) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版)
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2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
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2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/7/29 費用対効果に基づく外国特許出願国の選び方・進め方
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2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
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2022/4/4 軸受6社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
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2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2021/3/31 経営・事業戦略に貢献する知財価値評価と効果的な活用法