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シリカナノ粒子合成の基礎と化学修飾

シリカナノ粒子合成の基礎と化学修飾

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、溶媒分散系における化学修飾法を用いるシリカナノ粒子の合成と高機能化について、古典的な手法から最先端の技術まで概説いたします。
また、書面上では説明しづらい、演者が長い年月をかけて習得した合成 (修飾) 時の勘所についてもできる限りお伝えいたします。

開催日

  • 2024年6月13日(木) 13時00分 17時00分

修得知識

  • さまざまなシリカナノ粒子の合成法
  • シリカナノ粒子の粒径を制御するための方法
  • シリカナノ粒子の溶媒分散性を向上させるための方法
  • シリカナノ粒子の機能化のための化学修飾 (化学吸着および物理吸着) の方法

プログラム

 シリカナノ粒子 (コロイダルシリカ) とは、二酸化ケイ素から構成される数十〜数百 nm の球状粒子のことであり、粒径制御が容易で光学的に透明であり、絶縁性や機械的強度に優れているため、基礎研究から産業界まで広く利用されています。
 本講演では、シリカナノ粒子の合成およびその化学修飾 (化学吸着および物理吸着) について古典的な手法から最先端の技術まで概説します。単なる技術の紹介にとどまらず、それら合成 (修飾) 法の設計指針にまで踏み込んでお話しします。また、書面上では説明しづらい、講演者が長い年月をかけて習得したシリカナノ粒子の合成 (修飾) 時の勘所についても、できる限りお伝えします。

  1. 始めに
  2. ナノ粒子の科学
    1. シリカナノ粒子の性質
    2. ナノ粒子合成の科学 (ラメールのダイヤグラム)
    3. ナノ粒子分散の科学 (DLVO理論)
  3. 一般的なシリカナノ粒子の合成法と粒径制御
    1. ストーバー法
    2. 逆ミセル法
    3. シード媒介成長法
  4. 内部に空隙部を有するシリカナノ粒子の合成法
    1. メソポーラスシリカナノ粒子
    2. ラトル型シリカナノ粒子
    3. 中空シリカナノ粒子
  5. 化学吸着によるシリカナノ粒子の機能化
    1. ストーバー法 (内部修飾)
    2. 逆ミセル法 (内部修飾)
    3. シランカップリング剤による修飾 (表面修飾)
    4. 高分子による修飾 (表面修飾)
  6. 物理吸着によるシリカナノ粒子の機能化
    1. ストーバー法 (内部修飾)
    2. 逆ミセル法 (内部修飾)
    3. シード媒介成長法 (表面修飾)
    4. 高分子による修飾 (表面修飾)
    5. 再沈殿法 (表面修飾)
  7. 終わりに

主催

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受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

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