技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
最先端半導体集積回路の作製に必須となっているALD (Atomic Layer Deposition、原子層堆積法) は、数ナノメートル程度の極薄膜作製手法として膜厚の制御性や再現性に優れ、3次元立体構造への均一製膜なども可能であるという特徴を持っています。そのため、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。しかし、そのプロセスは原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法であるCVD (Chemical Vapor Deposition、気相薄膜形成法) と比較してかなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。近年、AIによるプロセス最適化なども試みられていますが、AIによる最適化の原理を理解できなければ、さらなる発展も見込めません。
このため、本講座では、まずALDの基礎知識としてCVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、ALDプロセスの理想と実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
ALDプロセスの基本的な特徴と応用範囲の基本的なことを習得できるよう配慮して講義を行います。また、それによってALDプロセスを最適化するための基本的な指針が習得できます。各種のALDプロセスの応用事例について学ぶとともに、その周辺技術としてQCM (Quartz Crystal Microbalance) によるその場観察などの手法についても知識を習得できます。最先端半導体作製へのALD応用など最新技術動向も紹介します。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
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オンラインセミナーをご選択の場合、以下の流れ・受講内容となります。
※会場で受講の場合、このサービスは付与されませんのでご注意ください。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/3/11 | 薄膜作成の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/5/29 | フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向 | オンライン |
発行年月 | |
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2021/3/8 | プラズマ技術 |
2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |