技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。
本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説する。第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明する。第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説する。
(2023年7月26日 10:30〜14:20 ※途中50分程度の休憩を挟みます)
酸化ガリウム (Ga2O3) は大きなバンドギャップと低コストで形成できるという特徴から新しいパワーデバイス半導体として大きな注目を浴びている。そのGa2O3は5つの結晶多形が存在し、その結晶多形によって異なる特徴を持つことから、それぞれ異なるデバイスへの応用が検討されている。その結晶多形の特徴や形成技術、またそれぞれの課題などについて説明する。形成技術についてはMBE法やMOCVD法、ミストCVD法などの手法でのそれぞれの結晶多形についての例を紹介する。また、パワーデバイス応用に重要な不純物添加技術や混晶化技術についても紹介する。(2023年7月26日 14:30〜17:00)
我々の生活に欠かせない各種デバイスに必要な機能薄膜を、低環境負荷かつ大面積に対し高品質に形成するため、霧化した溶液中に含まれる原料を熱分解させて基板上に機能膜を成長させる「ミストCVD」の開発を行ってきた。ところでミストCVDは、コランダム (α) 型Ga2O3薄膜の合成をはじめ、Ga2O3の各他型の合成を、世界に先駆け成功させてきた。
本講演では、ミストCVDに関して、経緯、歴史、膜・デバイスの作製・特性、および、ミストCVDの物理等について説明し、ミストCVDで合成したコランダム (α) 型Ga2O3系薄膜について、Alとの混晶、支援剤の影響、ドーピング、および、デバイスの作製・特性等について報告する。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/1/22 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
2025/1/28 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
2025/1/29 | 薄膜作製の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/2/4 | 薄膜作製の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
2025/2/5 | Si・SiC・GaN・酸化ガリウム・ダイヤモンドパワーデバイス技術ロードマップと業界展望 | オンライン | |
2025/2/5 | 先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化 | オンライン | |
2025/2/28 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
発行年月 | |
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2024/11/29 | パワーデバイスの最新開発動向と高温対策および利用技術 |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |