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スケールの形成機構とその抑制

スケールの形成機構とその抑制

~冷却面で発生する結晶の析出、成長~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、晶析におけるスケーリング発生の要因、対策の考え方を詳説いたします。

開催日

  • 2022年11月24日(木) 10時15分 16時00分

修得知識

  • 懸濁型晶析でのスケール形成の現象解析と防止策
  • 熱水化学の基礎
  • シリカスケール生成理論

プログラム

第1部 懸濁型晶析でのスケール形成の現象解析と防止策の開発

(2022年11月24日 10:15〜11:45)

 本講では懸濁型晶析におけるスケール形成防止策の提案に向け、懸濁結晶の形状と衝突現象の関係について解説する。

  1. スケール形成の要因としての懸濁結晶の可能性
  2. モデル粒子を用いた懸濁プロセスでの検討
    1. モデル非球形粒子の作成と形状の評価
    2. 装置構造内への懸濁粒子の衝突現象
    3. スケール形成開始への影響の観点での懸濁粒子の形状の考察
    • 質疑応答

第2部 懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの抑制

(2022年11月24日 12:45〜14:15)

 懸濁型冷却融液晶析法では、一般的に冷却ジャケットや冷却コイルを有した撹拌混合槽を用いて晶析操作を行う。この際生じるトラブルとして、過飽和度が上昇する冷却伝面の槽内側表面において、析出した結晶が付着・成長する、スケーリングと呼ばれる現象が知られている。スケーリングは冷却伝面における伝熱効率を下げ、生産性を悪化させるだけでなく、撹拌や掻取に用いられるスクレーパーの動作不良を誘発し、場合によっては装置の損傷といった大問題を発生させることがある。
 本講演では、原料中の微量不純物の影響にも言及した上で、懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの発生メカニズム、およびその抑制方法について解説する。

  1. 融液晶析法の特徴
  2. 懸濁型融液晶析における微量不純物の影響
  3. 懸濁型冷却融液晶析法におけるスケーリング発生メカニズムとその抑制方法
    • 質疑応答

第3部 シリカスケールの形成メカニズムとその抑制技術

(2022年11月24日 14:30〜16:00)

 地熱発電所におけるシリカスケール生成問題の概要について説明する。特に、溶液イオン平衡、速度計算に基づいたスケール成因とその対策について紹介する。

  1. 基礎知識編
    1. 国内における地熱発電所の現状
    2. 地熱発電所におけるシリカスケール生成問題
  2. 熱水化学基礎編
    1. 地熱水の生成プロセス
    2. 地熱水の化学組成
    3. 気液分離に伴う化学組成の変化
  3. シリカスケール編
    1. シリカスケールの化学組成
    2. シリカスケール生成実験
    3. 速度論に基づく生成機構
    4. 生成速度と温度の関係
    5. シリカスケール生成における共存イオンの影響
  4. 対策編
    1. スケール抑制の最適pH条件
    2. 現場における対策例
    • 質疑応答

講師

  • 工藤 翔慈
    千葉工業大学 工学部 応用化学科
    助教
  • 日野 智道
    三菱ケミカル株式会社 広島事業所 化成品製造部 生産技術課
    課長
  • 淵田 茂司
    東京海洋大学 海洋資源エネルギー学部門
    准教授

主催

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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

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本セミナーは終了いたしました。