技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、レジスト処理における寸法ばらつき、重ね合わせ誤差、スペーサ欠陥、パターン欠落等、レジスト工程上で発生する問題の原因とその解決・未然防止について、事例を交えてノウハウを解説いたします。
今日の半導体デバイスの進展を支えてきた技術の一つに微細パターン形成技術がある。1985年代初めに数μmのオーダであった最小加工寸法は、現在数10 nmのレベルまで微細化され、30年で1/100にまで縮小された。すでにArF (193 nm) の波長を用いた光リソグラフィでは、高NA化は限界に達しており、レイリーの式におけるk1ファクターの縮小が可能となるダブル/マルチパターニングリソグラフィが光リソグラフィの延命化技術の本命となる。ダブル/マルチパターニング技術では、工程の複雑さ、寸法ばらつき、重ね合わせ、パターン分割などの様々な高精度化へ技術課題が存在する。
本セミナーではこれらの課題解決に注目し、ダブル/マルチパターニング技術における基礎とプロセス材料の最適化について述べる。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/8/9 | フォトポリマーの材料設計と先端電子材料への応用 | オンライン | |
2024/8/21 | はんだ不良の原因と発生メカ二ズム | 東京都 | 会場・オンライン |
2024/8/21 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2024/9/20 | 半導体製造プロセス 入門講座 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2022/6/29 | 高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向 |
2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
2021/2/26 | 高速・高周波対応部材の最新開発動向 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2012/9/27 | 熱膨張・収縮の低減化とトラブル対策 |
2012/3/9 | フォトレジスト材料の評価 |
2012/2/25 | フォトレジスト 技術開発実態分析調査報告書 |
2005/5/13 | BGA・CSP・フリップチップはんだ接合部の加速試験と信頼性評価法 |
1991/3/1 | プリント配線板洗浄技術 |
1987/8/1 | 機構部品の故障現象と加速試験 |