第1章 光磁気技術の流れと高密度化

• 1 現状技術
• 2 将来動向

第2章 高密度化基礎技術

1節 多層光磁気膜の基礎物性

2節 光変調と磁界変調記録方式

• 1 記録原理と記録方式
• 2 光変調記録と記録補償技術
• 3 パルス磁界変調方式
• 4 ダイレクトオーバーライト技術
• 5 将来技術の可能性-超高密度化-

第3章 磁気超解再生

1節 磁気超解再生の原理と方式

• 1 原理の概要
• 2 方式
  • 2.1 FAD
  • 2.2 RAD
  • 2.3 CAD

2節 DRAD方式とGIGAMOディスク

• 1 3.5インチMOディスク
• 2 静磁結合型CAD媒体
• 3 再生補助層による解像度向上
• 4 AS-MOディスクの構造
• 5 光パルス磁界変調記録

3節 CAD方式とAS-MOディスク

• 1 CAD方式の原理
• 2 静磁結合型CAD媒体
• 3 再生補助層による解像度向上
• 4 AS-MOディスクの構造
• 5 光パルス磁界変調記録
• 6 ランド/グルーブ記録
• 7 片側ウォーブルアドレス
• 8 NRZIプラス符号変調
• 9 長短マークによる再生パワー制御
• 10 動作マージン

4節 iDディスク～デジタルカメラ用小型MO

• 1 開発の背景
• 2 IDディスクの概要と特長

第4章 磁区による増幅再生

1節 磁区拡大再生原理 (ディスクによる信号増幅) :MAMMOS

• 1 従来媒体、磁気超解像媒体との比較
• 2 各種MAMMOS媒体の記録再生特性
• 3 極微少磁区拡大再生への挑戦
• 4 MAMMOSの将来展開

2節 磁区拡大再生のコンピュータシミュレーション

3節 磁壁移動再生 (DWDD) 技術

• 1 DWDDの動作原理
• 2 DWDDによる再生信号の特徴
• 3 ゴースト信号の抑制
• 4 狭トラックピッチ化

4節 磁壁移動再生のコンピュータシミュレーション

• 1 パラメータとfront processの開始
• 2 front processにおける磁壁移動速度
• 3 rear process

第5章 今後の高密度化技術

1節 SILレンズを用いた近接場MO記録

2節 多値再生技術

3節 青色レーザ対応記録材料

• 1 短波長化による記録密度の向上とその課題
• 2 希土類-遷移金属アモルファス材料
• 3 多層膜・人工格子材料
• 4 規則合金材料
• 5 酸化物材料

第6章 磁気再生型デバイス

• 1 光磁気記録と磁気記録の融合への動き
• 2 光記録・磁気再生方式
• 3 光アシスト磁気記録方式
• 4 装置化への展望