特許情報分析(パテントマップ)から見た

マイクロセンサ技術開発実態分析調査報告書

～注目技術別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「マイクロセンサ」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
マイクロセンサ技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「マイクロセンサ」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). どのマイクロセンサ関連企業にどのような技術の公開があるか、
(2). 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 最近10年余における関連技術の消長はどのようになっているか、
(4). 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
(5). 直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
(6). この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、「マイクロセンサ」に関する過去10年余(国内公開日:2004年1月1日～2014年5月31日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は4,295件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 全般分析
- B. 上位20出願人比較分析
- C. 上位5出願人個別分析
- D. 特定5社比較分析(1位パナソニックG、2位セイコーG、3位ハネウエルINTERN 4位ロバートボッシュ、5位日立G)
- E. 上位20特許分類分析
- F. 特定特許分類分析
- G. キーワード分析 ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)においては、下記1グループの観点から分析を行った。 (1)目的・効果系キーワード(精度、信頼性など7個)
- H. 直近2年間の動向分析(2012年6月～2014年5月)
- I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

「マイクロセンサ」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移(年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移(年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング(上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング(上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード3C081の技術分類別件数(観点×数字)
- A-15. 2位Fタームテーマコード4M112の技術分類別件数(観点×数字)
- A-16. 出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-17. FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-19. Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-20. 出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差6件以上)
- A-21. 発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差7件以上)
- A-22. FIメイングループ分類別公開件数伸長率(件数差4件以上)
- A-23. FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差8件以上)
- A-24. Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
- A-25. FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差13名以上)
- A-26. FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差18名以上)
- A-27. Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)
B. 上位20出願人比較分析
- B-1. 公開件数比較(期間着目:2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- B-2. 公開件数の推移(累計)
- B-3. 共同出願人数の推移(累計)
- B-4. 新規発明者数の推移(累計)
- B-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
- B-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
- B-7. 新規Fターム分類数の推移(累計)
- B-8. 新規キーワード数の推移(累計)
- B-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- B-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- B-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- B-12. 上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較
- B-13. 目的・効果系キーワードとの公開件数相関
- B-14. 目的・効果系キーワードとの発明者数相関
- B-15. 公開件数占有率
- B-16. 審査・権利状況
- B-17. 公開件数の伸びと1位Fターム分類3C081EA02に関する構成率比較
- B-18. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
C. 上位5出願人個別分析
- C-1-1. 【パナソニックG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-2. 【セイコーG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-3. 【ハネウェルINTERN】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-4. 【ロバートボッシュ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-5. 【日立G】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-1. 【パナソニックG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-2. 【セイコーG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-3. 【ハネウェルINTERN】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-4. 【ロバートボッシュ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-5. 【日立G】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-3-1. 【パナソニックG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-2. 【セイコーG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-3. 【ハネウェルINTERN】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-4. 【ロバートボッシュ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-5. 【日立G】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-1. 【パナソニックG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-2. 【セイコーG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-3. 【ハネウェルINTERN】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-4. 【ロバートボッシュ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-5. 【日立G】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-5-1. 【パナソニックG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-2. 【セイコーG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-3. 【ハネウェルINTERN】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-4. 【ロバートボッシュ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-5. 【日立G】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-6-1. 【パナソニックG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-2. 【セイコーG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-3. 【ハネウェルINTERN】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-4. 【ロバートボッシュ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-5. 【日立G】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-7-1. 【パナソニックG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-7-2. 【セイコーG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-3. 【ハネウェルINTERN】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-4. 【ロバートボッシュ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-5. 【日立G】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-8-1. 【パナソニックG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-2. 【セイコーG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-3. 【ハネウェルINTERN】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-4. 【ロバートボッシュ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-5. 【日立G】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-9-1. 【パナソニックG】共同出願人との連携
- C-9-2. 【セイコーG】共同出願人との連携
- C-9-3. 【ハネウェルINTERN】共同出願人:0人
- C-9-4. 【ロバートボッシュ】共同出願人:0人
- C-9-5. 【日立G】共同出願人との連携
D. 特定5社比較分析(1位パナソニックG、2位セイコーG、3位ハネウェルINTERN、4位ロバートボッシュ、5位日立G)
- D-1. 5社の上位5FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
- D-2. 5社のパナソニックG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-3. 5社のセイコーG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-4. 5社のハネウェルINTERN上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-5. 5社のロバートボッシュ上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-6. 5社の日立G上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-7. 5社の3C081EA(マイクロマシン>用途)のFターム分類別公開件数比較
- D-8. 5社の4M112FA(圧力センサ>目的、効果)のFターム分類別公開件数比較
- D-9. 5社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
- D-10. 5社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
- D-11. パナソニックGの公開件数伸び変遷
- D-12. セイコーGの公開件数伸び変遷
- D-13. ハネウェルINTERNの公開件数伸び変遷
- D-14. ロバートボッシュの公開件数伸び変遷
- D-15. 日立Gの公開件数伸び変遷
- D-16. 5社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
- D-17. Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
E. 上位20特許分類分析
- E-1. FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-2. FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-3. Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-6. Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-9. Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-12. Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-15. Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F. 特定特許分類分析
- F-1. 特定特許分類分析(1)
  - F-1-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-2. 特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-3. 特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-4. 特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-5. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-6. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-7. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-8. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-9. 特定FIサブグループ分類B81B3/00の公開件数伸長率変遷
  - F-1-10. 特定FIサブグループ分類B81C1/00の公開件数伸長率変遷
  - F-1-11. 特定Fターム分類3C081EA02の公開件数伸長率変遷
  - F-1-12. 特定Fターム分類4M112FA20の公開件数伸長率変遷
  - F-1-13. 特定FIサブグループ分類B81B3/00の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-14. 特定FIサブグループ分類B81C1/00の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-15. 特定Fターム分類3C081EA02の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-16. 特定Fターム分類4M112FA20の出願人別公開件数ランキング(上位50)
- F-2. 特定特許分類分析(2)
  - F-2-1. 特定Fターム分類3C081EA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-2. 特定Fターム分類4M112AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-3. 特定Fターム分類4M112EA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-4. 特定Fターム分類4M112FA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-5. 特定Fターム分類3C081EA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-6. 特定Fターム分類4M112AA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-7. 特定Fターム分類4M112EA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-8. 特定Fターム分類4M112FA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-9. 特定Fターム分類3C081EA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-10. 特定Fターム分類4M112AA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-11. 特定Fターム分類4M112EA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-12. 特定Fターム分類4M112FA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-13. 特定Fターム分類3C081EA関連と4M112AA関連との公開件数相関
  - F-2-14. 特定Fターム分類3C081EA関連と4M112EA関連との公開件数相関
  - F-2-15. 特定Fターム分類3C081EA関連と4M112FA関連との公開件数相関
  - F-2-16. 特定Fターム分類4M112AA関連と4M112EA関連との公開件数相関
  - F-2-17. 特定Fターム分類4M112AA関連と4M112FA関連との公開件数相関
  - F-2-18. 特定Fターム分類4M112EA関連と4M112FA関連との公開件数相関
  - F-2-19. 特定Fターム分類3C081EA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-20. 特定Fターム分類4M112AA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-21. 特定Fターム分類4M112EA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-22. 特定Fターム分類4M112FA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-23. 特定Fターム分類3C081EA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-24. 特定Fターム分類4M112AA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-25. 特定Fターム分類4M112EA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-26. 特定Fターム分類4M112FA関連の公開件数伸長率変遷
G. キーワード分析
- G-1. キーワード別公開件数ランキング(上位100)
- G-2. キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)
- G-3. キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差13件以上)
- G-4. 目的・効果系キーワードの公開件数の推移(年次)と比率
- G-5. 目的・効果系キーワードの出願人数の推移(累計)
- G-6. 目的・効果系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
- G-7. 目的・効果系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
H. 直近2年間の動向分析(2012年6月～2014年5月)
- H-1. 出願人別公開件数ランキング(上位20)
- H-2. 出願人別公開件数占有率(上位20)
- H-3. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-4. FIサブグループ分類1位B81B3/00と他分類との相関(上位20)
- H-5. Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-6. Fターム分類1位3C081EA02と他分類との相関(上位20)
- H-7. 上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- H-8. 上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関
I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
- I-1. 弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
- I-2. 弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)
- I-3. 上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- I-4. 上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2. パテントチャート編

(1). オムロンの時系列チャート分析(2005年～2014年5月)
(2). 住友精密工業の時系列チャート分析(2005年～2014年5月)
(3). オムロンの上位3Fタームテーマコード分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2005年～2014年5月)
(4). 住友精密工業の上位3Fタームテーマコード分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2005年～2014年5月)
(5). オムロンのFタームテーマコード3C081の技術分類マトリクスチャート
(6). 笠井隆(オムロン)の公報2件のサイテーションマップ

3. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人統合リスト
資料2 : 出願人グループ化リスト
資料3 : パナソニックGの2004年～2014年5月における全公報273件の審査権利状況リスト
資料4 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 254ページ

ISBNコード

978-4-86483-381-3

発行年月

2014年6月

販売元

tech-seminar.jp

価格

54,982円 (税別) / 60,480円 (税込)

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開始日時		開催方法
2026/5/21	全固体電池の基礎・電池内部の界面現象と研究動向、および電気化学インピーダンスによる測定・解析	オンライン
2026/5/27	光学用透明樹脂の基礎と光学特性制御および高機能化	オンライン
2026/5/29	光学用透明樹脂の基礎と光学特性制御および高機能化	オンライン
2026/6/4	電気化学反応・電極反応の基礎と電気化学測定法および電極/溶液界面の解析技術	オンライン
2026/6/5	全固体電池の基礎・電池内部の界面現象と研究動向、および電気化学インピーダンスによる測定・解析	オンライン
2026/6/22	インピーダンス測定データの読み解き方と解析の考え方	オンライン
2026/6/23	光学設計入門	オンライン

発行年月
2012/1/15	光学フィルム技術開発実態分析調査報告書
2011/1/20	コンタクトレンズ技術開発実態分析調査報告書
2010/11/19	最新リフローカメラモジュール技術
2010/6/24	リチウムイオン電池技術
2009/2/25	オリンパスとニコン分析技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/2/25	オリンパスとニコン分析技術開発実態分析調査報告書
2006/1/31	リアプロジェクションTVの高画質化技術
1992/5/1	液晶ビデオプロジェクタ技術
1991/11/29	カラーイメージスキャナ設計技術
1991/10/1	設計のための光学用語解説
1991/3/1	光学薄膜技術
1989/2/1	光記録における信号処理技術
1988/9/1	固体撮像素子とカメラへの応用技術
1988/8/1	光学部品の選び方使い方
1986/11/1	最新光学ヘッドの設計と組立て・評価技術
1986/11/1	プラスチック光学部品コーティング技術
1986/3/1	光学部品の加工・測定技術

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