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「清浄化技術としてのフィルタ、エアロゾル粒子の分離・捕集技術と清浄度評価」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/1/23 フィルムの乾燥とプロセスの最適化、トラブル対策 オンライン
2026/1/23 GMP工場(増築・新規構築)における 設計/施工時の注意点とUSRの具体的記載例 オンライン
2026/1/27 多孔性材料による気体の吸着制御 オンライン
2026/1/28 クリーンルームにおけるゴミ・異物対策および静電気対策の基礎と実践 オンライン
2026/1/30 知っておくべきクリーンルームの基礎知識 オンライン
2026/1/30 半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム オンライン
2026/2/3 知っておくべきクリーンルームの基礎知識 オンライン
2026/2/6 半導体産業におけるクリーン化技術の基礎とノウハウ オンライン
2026/2/6 GMP工場(増築・新規構築)における 設計/施工時の注意点とUSRの具体的記載例 オンライン
2026/2/10 半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム オンライン
2026/2/10 分離膜の基礎と分離技術への展開およびゼオライトを用いたCO2分離技術の展望 オンライン
2026/2/12 医薬品工場の防虫・異物管理 完全攻略実践セミナー オンライン
2026/2/13 相分離生物学の基礎と創薬への応用に向けた先駆的研究事例/展開 オンライン
2026/3/2 相分離生物学の基礎と創薬への応用に向けた先駆的研究事例/展開 オンライン
2026/3/5 金属有機構造体MOFの合成・評価の基礎および応用展開最前線 オンライン
2026/3/16 金属有機構造体MOFの合成・評価の基礎および応用展開最前線 オンライン
2026/3/17 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
2026/3/26 クリーンルームにおける清浄度管理および作業員教育 会場・オンライン
2026/3/27 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー 東京都 会場・オンライン
2026/4/17 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン