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2026/4/10 |
先端半導体プロセス・チップレットにおける注目技術と特許動向および知財戦略の要点 |
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オンライン |
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2026/4/13 |
電子機器におけるさまざまな放熱方法とその効果 |
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オンライン |
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2026/4/14 |
半導体デバイス製造工程の基礎 |
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オンライン |
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2026/4/14 |
クリーンルーム工場での環境管理と各々設備の保守・保全のポイント |
東京都 |
会場・オンライン |
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2026/4/14 |
半導体・電子部品実装現場での静電気 (ESD) 対策 |
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オンライン |
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2026/4/15 |
洗浄バリデーションで必ず押さえるポイント (DHT, CHT, WCLの設定と評価・残留許容限度値の算出) と国内外の実地監査で重要な着眼点 |
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オンライン |
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2026/4/15 |
半導体・電子部品実装現場での静電気 (ESD) 対策 |
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オンライン |
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2026/4/15 |
フィジカルAIが生み出す半導体・ロボットを中心とした周辺市場と技術トレンド |
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オンライン |
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2026/4/16 |
製法変更時のプロセスバリデーションの実施基準とその手順 |
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オンライン |
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2026/4/17 |
半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで |
東京都 |
会場・オンライン |
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2026/4/17 |
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 |
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オンライン |
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2026/4/21 |
実践的クリーンルーム入門 (Q&A形式) |
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オンライン |
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2026/4/21 |
半導体の技術進化と産業構造変化および今後の展望 |
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オンライン |
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2026/4/22 |
ヒューマノイドロボットを中心としたフィジカルAIの最新動向と日本の現在地・企業戦略へのヒント |
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オンライン |
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2026/4/24 |
フィジカルAIが生み出す半導体・ロボットを中心とした周辺市場と技術トレンド |
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オンライン |
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2026/4/29 |
洗浄バリデーションで必ず押さえるポイント (DHT, CHT, WCLの設定と評価・残留許容限度値の算出) と国内外の実地監査で重要な着眼点 |
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オンライン |
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2026/5/14 |
チップレット・光電融合時代を支える半導体パッケージ基板の設計と実装技術 |
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オンライン |
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2026/5/21 |
シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 |
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オンライン |
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2026/5/22 |
DXとGXを支える次世代半導体実装用樹脂・基板材料の開発と技術動向 |
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オンライン |
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2026/5/26 |
医薬品・食品・化粧品工場における異物混入の具体的防止対策 |
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オンライン |
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2026/5/28 |
クリーンルームにおけるゴミ・異物対策および静電気対策の基礎と実践 |
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オンライン |
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2026/5/28 |
PIC/S GMP Annex 1に準拠した汚染管理戦略の構築 |
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オンライン |
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2026/6/11 |
PIC/S GMP Annex 1に準拠した汚染管理戦略の構築 |
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オンライン |