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「半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/5/26 医薬品・食品・化粧品工場における異物混入の具体的防止対策 オンライン
2026/5/26 化学プロセスのコスト計算とコスト削減のポイント オンライン
2026/5/27 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン
2026/5/27 先進半導体パッケージの最新動向を読み解くための三次元集積化技術 オンライン
2026/5/28 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 オンライン
2026/5/28 クリーンルームにおけるゴミ・異物対策および静電気対策の基礎と実践 オンライン
2026/5/28 光電融合技術へ向けた異種材料集積化と光集積回路の開発 オンライン
2026/5/28 PIC/S GMP Annex 1に準拠した汚染管理戦略の構築 オンライン
2026/5/29 半導体ドライプロセス入門 オンライン
2026/5/29 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン
2026/5/29 注射剤における目視・抜取異物検査の基準設定 (適・不適管理レベル) と異物低減方法 東京都 オンライン
2026/6/2 ナノインプリントリソグラフィの材料・プロセス技術と半導体回路形成への応用 オンライン
2026/6/3 半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 オンライン
2026/6/5 半導体製造工程における洗浄・クリーン化技術と汚染制御対策 オンライン
2026/6/5 食品工場の品質管理 (点検・監査など) のポイントとトラブル対策 オンライン
2026/6/8 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/8 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/9 外観目視検査の正しい進め方と精度向上すり抜け防止の具体的手法 東京都 会場・オンライン
2026/6/11 PIC/S GMP Annex 1に準拠した汚染管理戦略の構築 オンライン
2026/6/12 注射剤における目視・抜取異物検査の基準設定 (適・不適管理レベル) と異物低減方法 東京都 オンライン
2026/6/12 半導体パッケージングの基礎、各製造プロセス技術 オンライン
2026/6/12 GMPに対応した洗浄バリデーションの計画、運用と残留許容値の設定 オンライン
2026/6/15 化学工場で働く技術者に伝えたい使える化学工学知識 オンライン
2026/6/17 湿式洗浄の基礎と高品質洗浄達成の総合知識 オンライン
2026/6/17 半導体プラズマにおける診断・モニタリングと制御技術 オンライン
2026/6/17 AI半導体に求められる要求特性と国内外の開発状況 オンライン
2026/6/23 GMPに対応した洗浄バリデーションの計画、運用と残留許容値の設定 オンライン
2026/7/22 微粒子・微生物の環境モニタリング測定方法と留意点 オンライン
2026/7/24 2nm世代以降の先端半導体配線技術の最新動向 オンライン
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