技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
最先端半導体集積回路の作製に必須となっているALD (Atomic Layer Deposition、原子層堆積法) は、数ナノメートル程度の極薄膜作製手法として膜厚の制御性や再現性に優れ、3次元立体構造への均一製膜なども可能であるという特徴を持っています。そのため、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。しかし、そのプロセスは原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法であるCVD (Chemical Vapor Deposition、気相薄膜形成法) と比較してかなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。近年、AIによるプロセス最適化なども試みられていますが、AIによる最適化の原理を理解できなければ、さらなる発展も見込めません。
このため、本講座では、まずALDの基礎知識としてCVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、ALDプロセスの理想と実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
ALDプロセスの基本的な特徴と応用範囲の基本的なことを習得できるよう配慮して講義を行います。また、それによってALDプロセスを最適化するための基本的な指針が習得できます。各種のALDプロセスの応用事例について学ぶとともに、その周辺技術としてQCM (Quartz Crystal Microbalance) によるその場観察などの手法についても知識を習得できます。最先端半導体作製へのALD応用など最新技術動向も紹介します。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
会場受講 または オンラインセミナーのいずれかをご選択いただけます。
お申し込みの際、受講方法の欄にて、会場受講またはオンライン受講をご指定ください。
オンラインセミナーをご選択の場合、以下の流れ・受講内容となります。
※会場で受講の場合、このサービスは付与されませんのでご注意ください。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2026/1/22 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
| 2026/1/23 | CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開 | オンライン | |
| 2026/1/27 | ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と開発事例および最新動向 | オンライン | |
| 2026/1/28 | グラフェン系材料の基礎、高機能化技術および応用への展開 | オンライン | |
| 2026/2/6 | 半導体・電子デバイス製造における真空および薄膜形成・加工技術 | オンライン | |
| 2026/2/13 | 半導体製造プロセスにおけるドライエッチングの基礎・最新技術動向 | オンライン | |
| 2026/2/13 | ALD原料設計と成膜プロセスの基礎・実践 | オンライン | |
| 2026/2/16 | 半導体製造プロセスにおけるドライエッチングの基礎・最新技術動向 | オンライン | |
| 2026/2/16 | ALD原料設計と成膜プロセスの基礎・実践 | オンライン | |
| 2026/3/2 | ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング (ALE) の最新技術動向 | オンライン | |
| 2026/3/4 | 先端半導体デバイスにおけるCu/Low-k多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術の基礎〜最新開発動向 | オンライン | |
| 2026/3/4 | プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 | オンライン | |
| 2026/3/5 | 水素バリア材料の開発と評価 | オンライン | |
| 2026/3/9 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
| 2026/3/11 | スパッタ・蒸着・CVDによる薄膜形成技術の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
| 2026/3/12 | スパッタ・蒸着・CVDによる薄膜形成技術の基礎とトラブル対策 | オンライン | |
| 2026/3/13 | プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 | オンライン | |
| 2026/3/16 | クライオエッチングの反応メカニズムと高アスペクト比加工技術 | オンライン | |
| 2026/3/27 | プラズマプロセスの診断・モニタリングとそれに基づくプロセスの最適化 | オンライン | |
| 2026/3/30 | プラズマプロセスの診断・モニタリングとそれに基づくプロセスの最適化 | オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
| 2021/3/8 | プラズマ技術 |
| 2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
| 2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
| 1991/3/1 | 光学薄膜技術 |