技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、晶析におけるスケーリング発生の要因、対策の考え方を詳説いたします。
(2022年11月24日 10:15〜11:45)
本講では懸濁型晶析におけるスケール形成防止策の提案に向け、懸濁結晶の形状と衝突現象の関係について解説する。
(2022年11月24日 12:45〜14:15)
懸濁型冷却融液晶析法では、一般的に冷却ジャケットや冷却コイルを有した撹拌混合槽を用いて晶析操作を行う。この際生じるトラブルとして、過飽和度が上昇する冷却伝面の槽内側表面において、析出した結晶が付着・成長する、スケーリングと呼ばれる現象が知られている。スケーリングは冷却伝面における伝熱効率を下げ、生産性を悪化させるだけでなく、撹拌や掻取に用いられるスクレーパーの動作不良を誘発し、場合によっては装置の損傷といった大問題を発生させることがある。
本講演では、原料中の微量不純物の影響にも言及した上で、懸濁型冷却融液晶析におけるスケーリングの発生メカニズム、およびその抑制方法について解説する。
(2022年11月24日 14:30〜16:00)
地熱発電所におけるシリカスケール生成問題の概要について説明する。特に、溶液イオン平衡、速度計算に基づいたスケール成因とその対策について紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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| 発行年月 | |
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| 2012/11/1 | 高分子の結晶化メカニズムと解析ノウハウ |