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「凍結乾燥の基礎、条件設定、検討方法 (処方・パラメータ設定)、設備、生産機へのスケールアップおよび失敗事例と対策」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/1/7 印刷と塗工技術における各方式の基礎と最適化 オンライン
2026/1/14 フィルムの乾燥とプロセスの最適化、トラブル対策 オンライン
2026/1/15 レオロジーの基礎とチクソトロピー オンライン
2026/1/19 レオロジーの基礎とチクソトロピー オンライン
2026/1/20 実例を踏まえたスプレードライ技術の基礎とスケールアップ手法 オンライン
2026/1/21 実例を踏まえたスプレードライ技術の基礎とスケールアップ手法 オンライン
2026/1/21 フィルム製造における製膜/成形技術とスリット・巻取り技術の基礎と実際 オンライン
2026/1/23 フィルムの乾燥とプロセスの最適化、トラブル対策 オンライン
2026/1/26 国内外におけるRoll To Rollの研究・技術動向の最新情報 オンライン
2026/2/5 フィルム製造における製膜/成形技術とスリット・巻取り技術の基礎と実際 オンライン
2026/2/10 塗布膜乾燥プロセスのメカニズムと均一化・制御法 オンライン
2026/2/12 粉体の乾燥工程でのトラブル事例から見る最適な機器選定/スケールアップのポイント オンライン
2026/2/12 国内外におけるRoll To Rollの研究・技術動向の最新情報 オンライン
2026/2/13 医薬・食品を対象とした凍結乾燥技術 オンライン
2026/2/13 塗布膜乾燥プロセスのメカニズムと均一化・制御法 オンライン
2026/2/13 粉体の乾燥工程でのトラブル事例から見る最適な機器選定/スケールアップのポイント オンライン
2026/2/17 塗工・乾燥の技術・プロセスの入門講座 オンライン
2026/2/27 マイクロ波加熱の基礎と工学応用 オンライン
2026/3/3 マイクロ波加熱の基礎と工学応用 オンライン
2026/3/6 塗工・乾燥の技術・プロセスの入門講座 オンライン
2026/3/17 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
2026/3/27 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー 東京都 会場・オンライン
2026/4/17 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
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