第1部 材料マイクロ波プロセッシングの基礎と応用

(2022年4月13日 10:30〜11:50)

　主に固体材料 (金属、セラミックス) におけるマイクロ波エネルギー吸収メカニズムに付き解説し、マイクロ波加熱応用における諸現象に関し紹介する。

1. マイクロ波プロセッシング基礎
   1. 電磁波について
   2. マイクロ波照射系の概要
   3. マイクロ波と物質の相互作用
      • 誘電損失
      • 誘導電流 (導電) 損失
      • 磁気損失
2. マイクロ波加熱の特徴
   1. 浸透距離と内部加熱
   2. 電場集中
   3. 金属と誘電体の複合
3. マイクロ波プロセッシング応用
   1. 内部加熱、迅速加熱、選択加熱、非平衡加熱
   2. マイクロ波材料プロセッシング (固体)
   3. 材料、環境プロセッシングへの応用例
• 質疑応答

第2部 マイマロ波に関する装置、その構成と使い方について

(2022年4月13日 12:40〜13:50)

1. マイクロ波の特長
   1. マイクロ波とは
   2. マイクロ波の特長
   3. マイクロ波のメリットとデメリット
2. 適用分野例
3. 装置構成
   1. マイクロ波を構成するデバイスの紹介と役割
   2. シングルモードとマルチモード
   3. 装置例
4. 検討のポイント
• 質疑応答

第3部 マイクロ波を利用した乾燥技術と粉体微粒子への応用

(2022年4月13日 14:00〜15:10)

　湿式成形法で作製されたセラミックスの微細粒子成形体の乾燥は、通常の急速乾燥法では成形体の反りや密度むらが大きかった。そこで、マイクロ波を用いた乾燥法を使用することによりこの欠点を改善し、その要因について解説する。

1. マイクロ波の基礎知識
   1. マイクロ波とは
   2. セラミックスへの応用について
2. マイクロ波乾燥の具体例
   1. 泥漿鋳込み成形体への適用
   2. テープ成形体への適用
3. マイクロ波乾燥の高度利用
   1. コンパクトプロセスについて
• 質疑応答

第4部 マイクロ波の計測技術とその応用

- 電界分布・ばらつき・偏波方向などを中心に –

(2022年4月13日 15:20〜16:30)

　マイクロ波は発生機構や放射機構によってキャビティ内環境 (放射パワー、周波数分布、電界分布、偏波方向など) が異なることが分かっている。小型の光電界センサにより得られた実使用状態でのマイクロ波測定結果について解説する。

1. マイクロ波発生装置
   1. マグネトロン発信器
   2. 半導体発信器
   3. 放射アンテナ・リフレクタ
2. 光電界センサ
   1. 測定原理
   2. 特徴
3. 測定例
   1. 投入パワー (表示値) と測定結果
   2. マグネトロンによるキャビティ内電界分布・偏波分布
   3. 半導体発信器によるキャビティ内電界分布
   4. 偏波制御によるペプチドのメタライゼーション
• 質疑応答