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ITO膜の高品質化、表面処理、劣化対策

透明導電膜における周辺樹脂からの「酸」発生による腐食対策,品質ムラによる内部抵抗対策など

ITO膜の高品質化、表面処理、劣化対策

東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、低抵抗・高透過率ITO薄膜の形成技術と金属/誘電体ナノ積層化による超低抵抗化技術の現状と今後の展望について解説し、ITO電極を自己組織化単分子膜を利用した有機EL素子の特性を詳解いたします。

開催日

  • 2015年8月25日(火) 13時00分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 透明導電膜に関連する製品、ITO代替が求められる製品の技術者、研究者、開発者
    • タッチパネル
    • スマートフォン・携帯機器
    • タブレットPC
    • モニター・ディスプレイ
    • 家電
    • 精密機器 など
  • ITO代替材料の開発者、研究者
    • グラフェン
    • カーボンナノチューブ
    • ZnO など
  • これから透明導電膜を扱う方
  • 透明導電膜で課題を抱えている方

プログラム

第1部 ITO薄膜の現状と課題

(2015年8月25日 13:00〜14:30)

透明導電膜の代表的材料であるITO薄膜の高品質化で必要な低 温プロセスにて,低抵抗・高透過率ITO薄膜の形成技術と金属/誘 電体ナノ積層化による超低抵抗化技術の現状と今後の展望につい て解説します。

  1. はじめに
  2. 透明導電膜材料と薄膜作製法
    1. 透明導電膜材料の分類
    2. 透明導電膜作製方法
  3. 低温プロセスによる透明導電薄膜形成例と諸特性
    1. 低電圧マグネトロンスパッタ法によるITO薄膜
    2. 低エネルギーIP法によるITO薄膜
    3. PLD法によるITO薄膜
    4. H-MHVスパッタ法によるITO薄膜
    5. 低温プロセスによるITO薄膜の諸特性と課題
  4. 金属/誘電体ナノ積層化による低抵抗透明導電薄膜
    1. 金属/酸化物ナノ積層化透明導電薄膜
    2. 金属/窒化物ナノ積層化透明導電薄膜
  5. 今後の課題と展望 更なる低抵抗化,劣化対策,絶縁,その他
    • 質疑応答

第2部 ITO電極の表面処理と自己組織化単分子膜形成による高耐久性付与

(2015年8月25日 14:45〜16:15)

ITO電極表面にUVオゾン処理・プラズマ表面処理を行い、その表 面状態を調べた。より積極的にITO電極を自己組織化単分子膜を利 用した有機EL素子の特性を紹介する。

  1. はじめに
    1. 酸化物半導体
    2. 透明電極のいろいろ
    3. ITO電極
  2. 表面処理
    1. UVオゾン処理
    2. プラズマ表面処理
    3. 表面処理と有機薄膜形成
  3. 自己組織化単分子膜による表面処理
    1. 自己組織化単分子膜とは
    2. 自己組織化単分子膜形成ITO電極の表面状態
    3. 自己組織化単分子膜を利用した有機EL素子の特性
    • 質疑応答
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講師

  • 小川 倉一 氏
    小川創造技術研究所
    代表
  • 森 竜雄 氏
    愛知工業大学 工学部 電気学科
    教授
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会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図
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主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 48,600円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 45,000円(税別) / 48,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 54,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 97,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 145,800円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
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