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「PFAS (有機フッ素化合物) 規制の動向と半導体産業への影響」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/3/11 半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術 オンライン
2026/3/13 プラズマの基礎特性と半導体成膜、エッチングでの応用技術 オンライン
2026/3/16 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2026/3/16 半導体市場の動向と主要メーカーの開発状況 オンライン
2026/3/16 シリコン・パワー半導体におけるCMPの技術動向 オンライン
2026/3/17 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 東京都 会場・オンライン
2026/3/17 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/3/17 先端パッケージングの最前線 東京都 会場・オンライン
2026/3/17 UNRTDG (国連危険物輸送勧告) の基礎と正しい理解 オンライン
2026/3/18 先端パッケージングの最前線 オンライン
2026/3/18 CESとSPIEから読み解く電子デバイス2030年 オンライン
2026/3/19 半導体封止材用エポキシ樹脂と硬化剤・硬化促進剤の種類・特徴および新技術 オンライン
2026/3/19 化学物質の自律管理移行と労働安全衛生法 (安衛法) 改正対応 オンライン
2026/3/23 化学物質の自律管理移行と労働安全衛生法 (安衛法) 改正対応 オンライン
2026/3/24 チップレット実装における接合技術動向 オンライン
2026/3/25 SiC半導体における表面形態制御とメカニズム オンライン
2026/3/26 事故事例から学ぶ安全教育 / 研究現場・工場における安全管理とリスクアセスメント オンライン
2026/3/26 SiC半導体における表面形態制御とメカニズム オンライン
2026/3/26 二次元物質の基礎と半導体デバイスへの応用と展開 オンライン
2026/3/27 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー 東京都 会場・オンライン
2026/3/27 パワー半導体用SiCウェハ製造技術の基礎・技術課題・開発動向 オンライン
2026/3/27 シリコン半導体・パワー半導体への実用化に向けたCMP技術の最新動向 オンライン
2026/3/27 UNRTDG (国連危険物輸送勧告) の基礎と正しい理解 オンライン
2026/3/30 プリンテッド有機半導体デバイスの設計・作製方法、応用例、および機械学習の活用 オンライン
2026/3/30 シリコン半導体・パワー半導体への実用化に向けたCMP技術の最新動向 オンライン
2026/3/30 光電融合集積回路の基礎と開発動向 オンライン
2026/3/31 半導体デバイス製造工程の基礎 オンライン
2026/3/31 三酸化アンチモン代替難燃技術 オンライン
2026/4/3 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/4/3 PFAS規制強化の動きおよび回収・除去技術などの対策技術 オンライン
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