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「リソグラフィプロセスにおけるめっき、レジストマスクの基礎とトラブル対策」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/2/26 ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法 オンライン
2026/3/6 生成AIの隆盛に伴う半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版) オンライン
2026/3/9 ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法 オンライン
2026/3/12 めっき法の基礎及び堆積形状・膜物性の添加剤による制御 オンライン
2026/3/17 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/3/18 めっきの基礎および処理方法とトラブル対策 オンライン
2026/3/19 めっきの基礎および処理方法とトラブル対策 オンライン
2026/3/25 EUVレジスト/メタルレジストの要求特性、最新技術動向と課題、対策 オンライン
2026/4/3 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 オンライン
2026/4/3 EUVレジスト/メタルレジストの要求特性、最新技術動向と課題、対策 オンライン
2026/4/7 めっき技術の基礎と不良対策、めっき条件の最適化 オンライン
2026/4/13 めっきの基礎と応用、およびトラブル対策 オンライン
2026/4/16 めっき技術の基礎と不良対策、めっき条件の最適化 オンライン
2026/4/17 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 オンライン
2026/4/28 めっき技術/新めっき技術と半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向 オンライン