技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

「レジストプロセスの最適化、材料の使い方ノウハウ、トラブル対策」の関連セミナー・出版物

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/7/5 レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策 オンライン
2024/7/10 フッ素樹脂をはじめとするPFASの基礎と欧州PFAS規制の動向および用途別の代替手段 オンライン
2024/7/12 ウェットコーティングの基礎と単層、多層塗布方式の解説、塗布トラブル対策 オンライン
2024/7/19 バッチ化学合成プロセスのスケールアップによる化学品・医薬原薬の製造のポイントとトラブル対策 東京都 会場・オンライン
2024/7/23 プラスチックの加飾技術と最新動向 オンライン
2024/7/25 凍結乾燥製剤の設計とスケールアップ対策ならびにトラブル防止の具体的ポイント 東京都 会場・オンライン
2024/7/29 無機ナノ粒子の総合知識 東京都 会場・オンライン
2024/7/29 ディジタルホログラフィによる産業応用計測 オンライン
2024/7/30 プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ オンライン
2024/7/30 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2024/8/7 無機ナノ粒子の総合知識 オンライン
2024/8/21 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2024/8/23 半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術および最先端技術 オンライン
2024/9/20 半導体製造プロセス 入門講座 オンライン
2024/10/11 ウェットコーティング・単層、重層塗布方式の基礎とダイ膜厚分布・特許・塗布故障 オンライン

関連する出版物

発行年月
2024/4/1 反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書
2024/4/1 反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/11/30 造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/8/31 “ぬれ性“の制御と表面処理・改質技術
2023/5/31 塗布・乾燥のトラブル対策
2022/5/31 分離工学の各単位操作における理論と計算・装置設計法
2022/5/20 コーティング技術の基礎と実践的トラブル対応
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/3/26 超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻)
2021/3/26 超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻) (製本版 + ebook版)
2020/5/29 凍結乾燥工程のバリデーションとスケールアップおよびトラブル対策事例
2020/1/30 凍結乾燥の最適な条件設定による品質の安定化 - ラボ機と生産機の性能の違いを反映させたスケールアップ -
2019/12/20 高分子の表面処理・改質と接着性向上
2018/12/27 押出成形の条件設定とトラブル対策
2018/8/31 防汚・防水・防曇性向上のための材料とコーティング、評価・応用
2018/3/29 超親水・親油性表面の技術
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決