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服部 毅 (Hattori Consulting International)
所属
Hattori Consulting International
役職
代表
経歴
- 元 ソニー株式会社 リサーチフェロー
ソニー株式会社に30年余り勤務し、半導体部門で基礎研究、デバイス・プロセス開発から量産ライン (九州および米国テキサス州) の歩留まり向上まで広範な業務を担当。
この間、本社経営/研究企画業務、米国スタンフォード大学 留学、同 集積回路研究所客員研究員なども経験。
ウルトラクリーンテクノロジー研究室長、リサーチフェローを歴任。
2007年に技術・経営コンサルタント、国際技術ジャーナリストとして独立し、現在に至る。
過去に、カリフォルニア大学バークレー校工学部生涯学習講座、大阪大学大学院基礎工学研究科、韓国漢陽大学大学院工学研究科などの非常勤講師や客員教授を歴任。
学協会
- The Electrochemical Society (ECS) フェロー・終身名誉会員
- ECS主催半導体洗浄技術国際会議組織・運営・論文委員
- IMEC主催Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS) 国際会議日本代表プログラム委員
- IEEE主催半導体製造国際会議 (ISSM) 運営委員
- SEMI 日本地区スタンダード委員会委員
受賞
- 米国電気化学会 (ECS) フェロー
- 米国電気化学会 (ECS) 終身名誉会員
講演するセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2026/8/6 | 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 | オンライン |
講演したセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2015/7/21 | 先端半導体歩留向上・超クリーン化技術 | 東京都 | |
| 2014/7/2 | 半導体産業の最新ビジネス・技術戦略と今後の展望 | 東京都 | |
| 2014/2/19 | 半導体歩留まり向上のためのクリーン化と洗浄技術 | 東京都 | |
| 2012/8/31 | シリコンウェーハ450mm大口径化推進活動の欧米最新動向 | 東京都 | |
| 2012/3/28 | 先端半導体製造における洗浄・乾燥技術の基礎と課題および最新動向 | 東京都 | |
| 2011/6/17 | 半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向 | 東京都 | |
| 2011/6/16 | 半導体製造ラインにおける汚染の実態と歩留まり向上のための半導体クリーン化技術 | 東京都 | |
|
2011/6/16 2011/6/17 |
半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術と精密洗浄技術 | 東京都 |
著書
| 発行年月 | ||
|---|---|---|
| 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 | 2022/10/31 | 在庫あり |