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服部 毅 (Hattori Consulting International)
所属
Hattori Consulting International
役職
代表
経歴
- 元 ソニー株式会社リサーチフェロー
- 韓国Hanyang大学 大学院客員教授
学協会
- 米国電気化学会(ECS) 主催 半導体洗浄国際会議 (SCST) 組織委員長・論文委員長
- IMEC 半導体表面超クリーン化プロセス国際会議 (UCPSS) 日本代表プログラム委員
- IEEE 半導体製造国際会議 (ISSM) 運営委員
- SEMI 日本地区 スタンダード委員会 委員
受賞
- 米国電気化学会 (ECS) フェロー
- 米国電気化学会 (ECS) 終身名誉会員
講演するセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2026/3/17 | 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
|
2026/3/27 2026/4/17 |
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2026/4/17 | 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで | 東京都 | 会場・オンライン |
講演したセミナー
| 会場 | 開催方法 | ||
|---|---|---|---|
| 2012/8/31 | シリコンウェーハ450mm大口径化推進活動の欧米最新動向 | 東京都 | |
| 2012/3/28 | 先端半導体製造における洗浄・乾燥技術の基礎と課題および最新動向 | 東京都 | |
| 2011/6/17 | 半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向 | 東京都 | |
| 2011/6/16 | 半導体製造ラインにおける汚染の実態と歩留まり向上のための半導体クリーン化技術 | 東京都 | |
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2011/6/16 2011/6/17 |
半導体製造プロセスにおけるクリーン化技術と精密洗浄技術 | 東京都 |
著書
| 発行年月 | ||
|---|---|---|
| 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 | 2022/10/31 | 在庫あり |