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よくわかる潤滑油、グリース、添加剤の必須知識および最近の分離・分析技術の進歩

よくわかる潤滑油、グリース、添加剤の必須知識および最近の分離・分析技術の進歩

大阪府 開催

概要

本セミナーでは、燃料油、グリース、潤滑添加剤の最適な選定と正しく使用するための基礎知識から、分離・分析について詳解いたします。

開催日

  • 2012年2月8日(水) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • 潤滑油に関連する技術者、品質担当者、利用者
    • 潤滑油
    • グリース
    • 潤滑油添加剤
    • 合成潤滑油
    • 摩擦調整剤 など
  • 潤滑油が介在する材料・機器類を取り扱う方
  • 潤滑油で課題を抱えている方

修得知識

  • 潤滑油の基礎
  • 潤滑油添加剤の基礎
  • 潤滑油・添加剤の分離、分析方法
  • グリースの分離・分析方法
  • 摩擦調整剤の分離・分析方法

プログラム

 産業、工業の発展に伴って各種機械に使用される潤滑油は多岐にわたり、また、要求される性能は年々厳しくなってきている。
 潤滑油を厳正に選び、正しく使用することにより、工場の省エネルギー効果が増大し、利益向上につながる。
 また、機械装置の進歩に応じて、新しい潤滑剤の開発も重要である。
 このような観点から、鉱油系潤滑剤の作り方、種類、組成、機能を熟知することは重要であり、また、潤滑油の品質、寿命を左右する添加剤の化学構造と作用機構を学習することは大いに意義がある。
 さらに、潤滑油の市場調査、製造工程管理競争他社品の解明や新製品の開発のため潤滑油と添加剤の分離・分析法を体得することはきわめて大切である。
 本セミナーでは、初歩的な入門講座から始まって、暫時専門的な知識に至るまで易しく解説し、特に分析については具体的な手法を解説して、実践に役立つ内容とした。

  1. 潤滑油基油の製造方法と化学的組成
    • 硫酸洗浄法
    • 溶剤精製法
    • 水素化精製法
    • 水素化分解法
    • ワックス異性化法
    • GTL法
    • 潤滑油の化学的組成
  2. グリースの製造方法と化学的組成、機能と特性
    • グリースの構成成分
    • グリースの増ちょう剤
    • グリースの基油
    • グリースの添加剤
    • グリースの製造方法
  3. 潤滑油添加剤の化学構造と作用機構
    • 酸化防止剤
    • 粘度指数向上剤
    • 流動点降下剤
    • 清浄分散剤
    • 腐食防止剤
    • さび止め剤
    • 極圧添加剤
    • 油性向上剤
    • 消泡剤
    • 乳化剤
    • 摩擦調整剤
    • 防かび剤 (エマルション用)
    • 抗乳化剤
  4. 潤滑油および添加剤の分離、分析方法
    • 潤滑油の系統的分離分析法
    • 潤滑油基油の成分分析法
    • n-d-M法による環分析
    • 液体クロマトグラィ-
    • 迅速微量クロマトグラフ分析法
    • 添加剤の分離法
    • ゴム膜透析
    • 液体クロマトグラフィー
    • イオン交換クロマトグラフィー
    • 薄層クロマトグラフィー
    • 高速液体クロマトグラフィー
    • 潤滑油無機成分の化学分析および機器分析
    • 化学分析法
    • 蛍光X線分析法
    • X線回折法
    • 原子吸光分析法
    • プラズマ発光分析
    • 潤滑油有機成分の機器分析法
    • 赤外線吸収スペクトル分析
    • 紫外線吸収スペクトル分析
    • 核磁気共鳴スペクトル分析
    • 質量スペクトル分析
  5. グリースの分離・分析方法
    • グリースの構成成分
    • グリース成分の分離法
    • 有機成分の分析法
    • 無機成分の分析法
    • グリースの熱分析法
  6. 合成潤滑油の分離・分析方法
    • 合成潤滑油のつくり方
    • 合成潤滑油の分離・分析方法
  7. 摩擦調整剤の分離・分析方法
    • 摩擦と摩擦係数
    • 摩擦調整剤の作用機構
    • 摩擦調整剤の化学構造
    • 摩擦調整剤の評価試験方法
    • 摩擦調整剤の分離・分析方法
  8. 潤滑油商品の研究開発における分離・分析方法の重要性
    • 高性能電気絶縁油の開発
    • 高粘度指数作動油の開発
    • 高塩基性舶用シリンダ油の開発
    • 潤滑油流動点降下剤の新合成法の開発
    • 質疑応答・名刺交換

会場

ドーンセンター

4階 中会議室3

大阪府 大阪市 中央区大手前1丁目3-49
ドーンセンターの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
    • 2名同時にお申し込みいただいた場合、2人目は無料 (2名で49,980円)
    • 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。

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