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羽深 等

所属

反応装置工学ラボ

役職

代表

学位

博士 (工学)

専門

  • 化学工学
  • 反応工学

研究内容

  • 化学気相堆積 (CVD) 法 (シリコン、炭化珪素)
  • ノンプラズマエッチング技術 (シリコン、炭化珪素、酸化ハフニウム)
  • 洗浄、表面汚染、高速加熱などに関する実験・数値計算およびプロセス・装置の開発

経歴

  • 1979年3月 新潟大学 理学部 化学科 (理学士)
  • 1981年3月 京都大学 大学院 理学研究科 化学専攻 修士課程 修了 (理学修士)
  • 1981年4月〜2000年3月 信越化学工業株式会社 (半導体磯部研究所)
  • 1996年9月 広島大学 大学院 工学研究科 修了 博士 (工学)
  • 2000年4月〜2002年3月 横浜国立大学 工学部 物質工学科 助教授
  • 2002年4月〜2022年3月 横浜国立大学 大学院 工学研究院 教授
    • 横浜国立大学 大学院 理工学府 化学・生命系理工学専攻 教授
    • 横浜国立大学 理工学部 副学部長
  • 2022年4月 横浜国立大学大学院 工学研究院 名誉教授
  • 2022年4月 反応装置工学ラボラトリ 代表

学協会

  • 化学工学会 エレクトロニクス部会 部会長
  • 化学工学会 反応部会 CVD反応分科会 幹事
  • よこはま高度実装技術コンソーシアム 理事長
  • 応用物理学会
  • エレクトロニクス実装学会
  • 日本結晶成長学会
  • 空気清浄協会
  • 米国電気化学会
  • 米国化学会

講演するセミナー

会場 開催方法
2026/6/29 CVD/ALDプロセスの反応メカニズムとプロセス最適化 オンライン
2026/7/8 CVD/ALDプロセスの反応メカニズムとプロセス最適化 オンライン