フレキシブルマイクロLEDの可能性

東京都開催会場開催

概要

本セミナーでは、次世代のマイクロLEDの研究開発、材料・技術について詳解いたします。

開催日

2019年6月20日(木) 13時30分～ 16時30分

修得知識

窒化物LEDを用いてマイクロLEDディスプレーを実現するための現時点における技術的問題点
解決策の一例としてのスパッタ成膜技術
今後の技術的展望

プログラム

　マイクロLEDは有機ELのディスプレーを置き換える次世代表示素子技術として大きな注目を集めている。マイクロLEDディスプレーを実用化するためには、安価な大面積基板上にGaN – LED アレイを作製する技術を開発する必要があるが、本セミナーではスパッタリングによる窒化ガリウム成長技術を用いた大面積フレキシブルマイクロLED作製の可能性について、この分野に関する専門知識のない技術者にもわかるように平易に解説する。

開発の背景
1. 表示素子の技術的流れ
2. マイクロLEDの重要性
3. マイクロLED製造の技術的問題点
4. スパッタGaN成長技術の利点
スパッタ法によるGaNの成長技術
1. スパッタGaN薄膜の構造的特徴
2. スパッタGaN薄膜の電気的特徴
3. スパッタGaN薄膜の光学的特徴
スパッタ法を用いて試作したGaN素子の特性
1. スパッタGaNLED素子の特性
2. スパッタGaNHEMT素子の特性
3. スパッタGaNMISFET素子の特性
4. スパッタGaNパワー素子の特性
5. スパッタGaN受光素子の特性
スパッタ法を用いて低価格基板上に試作したGaN素子の特性
1. GaN成長用低価格基板
2. 金属フォイル上に作製したGaNLED素子
3. ガラス基板上に作製したGaNLED素子
4. ポリマーフィルム上に作製したGaN素子

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講師

藤岡洋氏
東京大学生産技術研究所

教授

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会場

ちよだプラットフォームスクウェア

5F 会議室503

東京都千代田区神田錦町3-21

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主催

株式会社シーエムシー・リサーチ

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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様

: 44,444円 (税別) / 48,000円 (税込)

複数名

: 19,907円 (税別) / 21,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額 (税込 21,500円)となります。

Eメール案内を希望する方
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 39,815円(税別) / 43,000円(税込)
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- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 133,333円(税別) / 144,000円(税込)

アカデミック割引

1名様あたり 23,148円(税別) / 25,000円(税込)

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。

本セミナーは終了いたしました。

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