グラフェンの合成・量産・複合技術 および用途開発の現状と課題
~グラフェンの本格普及に向け、乗り越えるべき技術課題とは~
東京都 開催
会場 開催
概要
本セミナーでは、グラフェンの特性や形成法、量産への取り組み、複合技術、世界の研究開発動向など、グラフェンの基礎から最新動向まで解説いたします。
開催日
-
2017年5月25日(木) 13時00分
~
16時30分
受講対象者
- グラフェンの応用に関連する技術者、研究者、開発者
- リチウムイオン電池
- キャパシタ
- 燃料電池
- 樹脂コンポジット分野
- 電界効果トランジスタ など
- グラフェンに関連する技術者、研究者、開発者
- グラフェンの生産、量産を検討している技術者
- グラフェンで課題を抱えている方
プログラム
グラフェンは新しい材料であるにも関わらず、工業利用が一部始まっている。世界各国で開発競争が繰り広げられているグラフェンについて、実際はどのような材料であるのか、工業利用を目指した合成技術、および量産技術確立への展望などについて議論する。またグラフェンと関連する二次元材料との組み合わせ (複合技術) もたいへん重要であり、これについても織り交ぜて講演する。
さらに現在進められている用途開発と直面する課題について検討し、グラフェンの可能性と今後の展開について把握する機会としたい。
- グラフェンの特性
- 特性のまとめ
- 電気的特性・光学的特性の基礎
- 機械的特性
- 熱的特性
- ガス透過性
- グラフェン研究開発の歴史
- グラフェンの理論的予測
- 最初のグラフェンの発見
- グラファイトのテープ剥離による世界初のグラフェンの単離
- エポックメーキングな実験
- 日本の炭素材料開発およびグラフェン開発
- グラフェンの形成法
- 剥離などによるグラフェンの形成
- 酸化グラフェンおよび酸化グラフェンの還元による剥離グラフェンの形成
- 酸化グラフェンを経ない剥離グラフェンの形成
- 熱CVDによるグラフェンの形成
- プラズマを利用したグラフェンのCVD合成
- グラフェンの高スループットCVD合成の試み
- その他
- グラフェンの量産に向けた試みと現状の課題
- 酸化グラフェン大量生産の現状
- CVDグラフェンのロールツーロール合成の試み
- バンドギャップを形成する試み (半導体用途を目指して)
- 二層グラフェンによるバンドギャップ形成
- ナノリボンによるバンドギャップ形成
- グラフェンの用途開発の現状
- 透明導電膜用途
- バッテリー関連用途
- フィルタレーション用途
- ガス高純度化用途
- センサー用途
- その他
- 世界のグラフェン研究開発動向
講師
長谷川 雅考 氏
国立研究開発法人 産業技術総合研究所
ナノ材料研究部門
炭素系薄膜材料グループ
研究グループ長
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
お問い合わせ
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)
受講料
1名様
:
38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
:
20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)
複数名同時受講の割引特典について
- 2名様以上でお申込みの場合、
1名あたり 20,000円(税別) / 21,600円(税込) で受講いただけます。
- 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,040円(税込)
- 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 43,200円(税込)
- 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 64,800円(税込)
- 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
- 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
- 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
- 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
- 他の割引は併用できません。