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2026/4/17 |
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー |
東京都 |
会場・オンライン |
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2026/4/17 |
半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで |
東京都 |
会場・オンライン |
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2026/4/23 |
塗布膜乾燥のメカニズムとその制御、トラブル対策 |
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オンライン |
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2026/4/24 |
濾過操作の基礎知識と濾過プロセスの設計、条件最適化 |
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オンライン |
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2026/4/27 |
プラントのリスクアセスメント手法 (定性評価手法/定量評価手法) |
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オンライン |
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2026/4/27 |
濾過の基礎とフィルターの正しい選び方、使い方 |
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オンライン |
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2026/4/28 |
プラントのリスクアセスメント手法 (定性評価手法/定量評価手法) |
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オンライン |
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2026/4/29 |
洗浄バリデーションで必ず押さえるポイント (DHT, CHT, WCLの設定と評価・残留許容限度値の算出) と国内外の実地監査で重要な着眼点 |
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オンライン |
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2026/5/8 |
塗布膜乾燥のメカニズムとその制御、トラブル対策 |
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オンライン |
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2026/5/11 |
超臨界CO2プロセスの基礎と応用 : 化学プロセス開発と物性解析の実践 |
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オンライン |
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2026/5/12 |
超臨界CO2プロセスの基礎と応用 : 化学プロセス開発と物性解析の実践 |
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オンライン |
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2026/5/12 |
粉体プロセスに関する化学工学的計算と条件最適化 |
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オンライン |
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2026/5/15 |
化学工学における小規模データ + ニューラルネットワークの活用手法 |
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オンライン |
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2026/5/18 |
化学工学における小規模データ + ニューラルネットワークの活用手法 |
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オンライン |
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2026/5/19 |
晶析プロセス設計で必要な化学工学計算と条件設定手法 |
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オンライン |
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2026/5/19 |
ロボットを活用した実験の自動化 |
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オンライン |
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2026/5/20 |
化学プロセスで最低限必要となる理論化学と無駄なデータエラー・トラブル防止 |
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オンライン |
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2026/5/20 |
溶融製膜/溶液製膜によるフィルム成形技術の基礎と実際 |
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オンライン |
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2026/5/21 |
粉体プロセスに関する化学工学的計算と条件最適化 |
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オンライン |
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2026/5/21 |
塗布膜形成・乾燥のメカニズムとその制御 |
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オンライン |
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2026/5/25 |
化学プロセスのコスト計算とコスト削減のポイント |
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オンライン |
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2026/5/25 |
塗布膜形成・乾燥のメカニズムとその制御 |
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オンライン |
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2026/5/26 |
化学プロセスのコスト計算とコスト削減のポイント |
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オンライン |
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2026/5/27 |
濾過プロセスの操作設計とトラブル対応 |
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オンライン |
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2026/5/27 |
GMP工場の設備設計および維持管理のポイント |
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オンライン |
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2026/5/27 |
反応工学の基礎から学ぶ各種反応器の合理的な設計と工業化・スケールアップにおけるポイント |
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オンライン |
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2026/5/28 |
半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 |
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オンライン |
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2026/5/28 |
晶析プロセス設計で必要な化学工学計算と条件設定手法 |
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オンライン |
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2026/5/28 |
濾過プロセスの操作設計とトラブル対応 |
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オンライン |
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2026/5/28 |
スラリーおよび樹脂中の粒子の分散安定化と塗膜の特性向上の実務 |
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オンライン |