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霜垣 幸浩

所属

東京大学
大学院 工学系研究科
マテリアル工学専攻

役職

教授

学位

博士 (工学)

専門

  • 反応工学
  • 材料工学
  • デバイスプロセス
    • 薄膜作製
    • ドライエッチング

研究内容

  • CVD/ALD法によるULSI高信頼性多層配線形成プロセスの開発
  • 原子層堆積(ALD)法によるULSIデバイス用電極形成プロセスの開発
  • SCFD法によるメモリキャパシタ形成プロセスの開発
  • MOVPE法によるLED製造プロセスの開発
  • 化学反応設計に基づく耐熱構造材料形成CVDプロセスの開発
  • 超臨界流体を利用した薄膜形成プロセスの開発とデバイス応用
  • セラミックス構造材料の合成

経歴

  • 1989年 東京大学 工学部 化学工学科 助手
  • 1991年 東京大学 工学部 化学工学科 講師
  • 1997年 東京大学 大学院 化学システム工学専攻 助教授
  • 1998年 東京大学 大学院 金属工学専攻 助教授
  • 2001年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 助教授 (改組)
  • 2011年 東京大学 大学院 マテリアル工学専攻 教授

1984年から現在に至るまで,CVD/ALD法による薄膜合成の研究開発に従事
2007年より,化学工学会反応工学部会CVD反応分科会代表として,CVD関連技術の普及・発展に寄与
2014年 開催 ALD国際学会実行委員長

学協会

  • 化学工学会
  • 応用物理学会
  • American Vacuum Society
  • Electrochemical Society
  • Material Research Society など