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明渡 純

所属

独立行政法人 産業技術総合研究所
先進製造プロセス研究部門

役職

上席研究員

学位

工学博士

専門

  • 薄膜工学
  • デバイス集積化技術
  • 光応用計測

経歴

  • 1984年 : 早稲田大学 理工学部 応用物理学科 卒業
  • 1989～1991年 : 早稲田大学 理工学部 助手
  • 1991年 : 通産省工業技術院機械技研 入所
  • 2001年～ : 独立行政法人・産業技術総合研究所グループ長

現在、エアロゾルデポジション法やインクジェット法によるセラミックスインテクグレーション技術とMEMSデバイス等を研究。
2002～2006年度・経済産業省ナノテクノロジープログラム・プロジェクトリーダー。常温衝撃固化現象によるAD法の発明者。

受賞

  • 2007年 : 第39回 市村賞 学術貢献賞。
  • 2007年 : 平成9年度 文部科学大臣表彰 科学技術賞 研究部門。
  • 2007年 : 第5回 産学官連携功労者表彰 科学技術政策大臣賞。
  • 2007年 : 平成19年度 全国発明表彰 21世紀発明賞。
  • 2009年 : 平成20年度 日本機械学会賞 (技術) 。
  • 2011年 : 第65回 (平成22年度) 日本セラミックス協会賞 (学術賞) など