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鴨志田 洋一

所属

鴨志田技術事務所

役職

代表

専門

  • 機能性高分子
  • 高分子合成
  • リソグラフィ材料
  • 知的財産権
  • コーポレートガバナンス

経歴

  • 1971年 東京大学 工学部 工業化学科 卒業
  • 1973年 東京大学 大学院 工学系研究科 合成化学専門課程 修了
  • 1973年〜2011年 JSR 株式会社 、フォトレジストの研究開発、研究開発室長、マーケティング部長、知的財産部長、テクノポリマー常勤監査役
  • 1998年〜2001年 インターリサーチ社長 (兼務)
  • 1997年〜2000年 千葉大学 客員教授 (兼務)
  • 2002年〜2004年 東京大学 大学院 非常勤講師 (兼務)
  • 2010年〜2022年 神奈川大学 工学部 講師 (兼務)
  • 2021年〜 鴨志田技術事務所 代表 (技術コンサルタント)

学協会

  • 高分子学会 フェロー
  • 日本化学会
  • 1994年〜2017年 電気学会 先端リソグラフィ調査専門委員
  • 2012年〜2020年 フォトポリマー懇話会 会長
  • 2023年 フォトポリマー懇話会 顧問

講演したセミナー

会場 開催方法
2025/5/13 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2025/4/22 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2024/8/21 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2024/7/30 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2023/10/16 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来 オンライン
2023/5/16 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2022/9/26 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来 オンライン
2022/1/31 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度化に向けた応用技術、今後の展望 オンライン
2021/3/29 レジスト材料・リソグラフィ技術の基礎と開発及びプロセスの不良防止・トラブル対策への応用 オンライン
2019/12/23 レジスト・リソグラフィ技術の基礎とレジスト材料・リソグラフィ技術開発及びプロセスの不良防止・トラブル対策への応用 東京都