石川 道夫
経歴
元 Samsung 日本研究所
- 1983年 日本真空技術株式会社 (現 株式会社アルバック) 入社
電子部品、ハードディスクスパッター装置、プロセス開発
- 1992年 液晶ディスプレー用PE – CVD装置、プロセス開発
- 1998年 千葉超材料所長
ディスプレー用PECVD,スパッター、エッチング等開発
- 2000年 半導体技術研究所設立 初代所長
半導体関連装置、プロセス全般の開発
- 2012年 Samsung Techwin 入社
- 2014年 Samsung 日本研究所 移籍
- 2019年 つばさ真空理研株式会社 設立