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ナノインプリントプロセスの基礎から応用,将来動向まで
ナノインプリントプロセスの基礎から応用,将来動向まで
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
開催日
- 2013年8月26日(月) 13時30分 ～ 16時30分
プログラム
第1講 基礎編
- 熱ナノインプリントプロセス
- 光ナノインプリントプロセス
- モールド作製
- 離型プロセス
第2講 応用編
- マイクロ流路
- 太陽電池,発光ダイオードへの応用
- パターンドメディア
- ナノメタルワイヤー
- その他～インプリントプロセスの将来動向
講師
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
43,000円 (税別) / 45,150円 (税込)
1口
:
56,000円 (税別) / 58,800円 (税込)
(3名まで受講可)
割引特典について
- 複数名 同時受講:
1口 58,800円(税込) (3名まで受講可能)
本セミナーは終了いたしました。
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