技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

異物混入対策のセミナー・研修・出版物

医薬品の多様性を考慮した外観目視検査における要求品質の明確化と異物低減対策の具体的ポイント

2024年9月27日(金) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、外観検査の基礎から解説し、効率的な目視検査の手順、目視検査員の教育、外観検査結果の活用、品質改善の手順とポイントについて詳解いたします。

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術および最先端技術

2024年8月23日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術・乾燥技術について取り上げ、洗浄技術・乾燥技術の基礎、課題と対策について解説いたします。

半導体デバイスの物理的洗浄手法

2024年8月19日(月) 13時00分2024年8月30日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

混入異物の識別法・迅速な原因解明のポイント習得のための各種製品に混入する異物の特徴と分析技術を活用した処方

2024年8月7日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、異物混入対策について取り上げ、代表的な混入異物の傾向・形態的特徴、分析技術の基礎知識、異物分析結果の解釈、迅速な原因解明のためにすべきことについて、すぐに職場で活用できるよう実践的に分かりやすく解説いたします。

半導体デバイスの物理的洗浄手法

2024年7月23日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

クリーンルームの維持管理における必須知識と実践ノウハウ

2024年7月19日(金) 10時30分16時30分

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。

塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー

2024年7月2日(火) 10時00分16時00分
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本セミナーでは、塗装のゴミ・ブツ退治に有効な見える化手法を軸に、塗装現場ですぐに役立つノウハウを実践的にわかりやすく解説いたします。

クリーンルームの基礎と作業員・清潔度維持管理のポイント

2024年6月27日(木) 13時00分16時30分
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本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

生産移行後のトラブルを未然に防ぐための製造設備および支援設備のバリデーション

2024年6月26日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、最新のGMP、バリデーションの考え方、ユーザー要求仕様書作成のポイント、設備適格性確認における実施事項、CSVの基礎知識について、豊富な経験に基づき事例を踏まえ分かりやすく解説いたします。

カビの発生予測、混入、発生防止と「カビ毒」の基礎知識

2024年6月20日(木) 10時30分16時00分
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本セミナーでは、カビ毒の特性、種類および検出法、カビ毒の国際的な基準値の決まり方、カビの発生原因の原因解明のための各種測定方法、カビ発生の原因と対策・未然防止策について詳解いたします。

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年6月13日(木) 10時30分2024年6月26日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

GMP工場の設備設計および維持管理のポイント

2024年5月31日(金) 10時30分2024年6月4日(火) 16時30分
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本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

2024年5月30日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

フィルムへの塗工技術とプロセス最適化、トラブル対策

2024年5月29日(水) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、塗工と乾燥の基礎から解説し、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
また、風ムラやベナールセルなど、塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

クリーンルームにおける作業員・設備の日常管理・教育担当者講座

2024年5月29日(水) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、作業員の衣服や所持品、動作や衛生管理など各ケースの (発塵量比較) データを提示しながら、教育管理について科学的かつ平易に解説いたします。

クリーンルームの基礎とクリーン化対策

2024年5月29日(水) 10時00分2024年5月31日(金) 16時00分
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本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

GMP工場の設備設計および維持管理のポイント

2024年5月21日(火) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、トラブルを未然に防止するために知っておきたいURS作成時の要点、作業者にもできる保守点検など、施設設計と維持管理のポイントについて具体例を挙げて解説いたします。

クリーンルームの基礎とクリーン化対策

2024年5月17日(金) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

外観目視検査員教育法と見逃し・バラツキ低減技術

2024年5月15日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、外観検査の基礎から解説し、外観検査の進め方と具体的実施手順を示して、外観検査の精度を高める方法を詳解いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2024年4月24日(水) 10時30分2024年4月26日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

医薬品・食品・化粧品工場における異物混入の具体的防止対策

2024年4月24日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、医薬品・食品・化粧品工場における原材料由来異物の対策、人由来異物の対策、設備由来異物の対策、防虫対策、空調システム設計、バリデーション時の留意点、用水システム設計、バリデーション時の留意点について、豊富な経験に基づき、具体的事例を交えて詳しく解説いたします。

半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術

2024年4月18日(木) 13時00分2024年5月2日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

クリーンルームの維持管理と静電気対策の実際

2024年4月17日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの原理からその運用方法、ゴミ異物の発見とその除去方法まで、実例を交えて解説いたします。
また、静電気の発生機構、測定法を解説した上でその対策方法も実例を含めて解説いたします。

異物問題への対処法

2024年4月11日(木) 10時30分16時30分
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本セミナーでは、各種製品・原材料中に混入する異物、その発生原因と防止策から、発生した場合の分析、原因解明まで網羅的に解説いたします。

具体的なクリーンルームの管理手法と現場からみた異物混入対策

2024年4月10日(水) 10時00分16時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの基礎、汚れ・維持・メンテナンスチェック項目、クリーンルームの清浄度測定方法、管理、清掃、事例を交えて実践的に解説いたします。

半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術

2024年4月5日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

無菌製剤工場の製造プロセスと設備・施設設計のポイントと注意点

2024年4月3日(水) 13時00分2024年4月5日(金) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、清浄度ゾーニング/工場におけるバリア機能/更衣について実例を用いて解説いたします。
また、2022年8月に発行された、EU-GMPの新しいAnnex 1の注目すべき内容も解説する予定です。

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