技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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視聴期間は2024年6月13日〜26日を予定しております。
お申し込みは2024年6月13日まで承ります。
本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
半導体洗浄が直感的に分かることを目指して、基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって「清浄・きれい」とは何か?を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をしていて、何をどうしたら良いのかが感じ取れます。
ここでは、身近な流れの動画を見て感覚をつかみ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れを可視化観察動画と計算例で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動画を見るとイメージが湧きます。今後、極めて微細なパターンを洗浄する際に見落としがちなことも考えてみます。
終わりには、足元をすくわれた時の視点と対策を紹介して締め括ります。工学の初歩から応用のつながりまで説明しますので、半導体以外の洗浄や洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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