技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

洗浄のセミナー・研修・出版物

洗浄バリデーション実施と残留許容基準・残留量代表値の設定根拠

2012年12月7日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーション実施上必要となる基礎知識を網羅的に解説いたします。

3極GMP・無菌操作法改正を踏まえたクリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2012年11月28日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、無菌操作法で改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

ロールtoロールのウェット/表面処理技術

2012年11月26日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、最新の有機EL照明用洗浄装置・技術を含め、ロールtoロール方式による、めっき・レジスト塗布・現像・エッチング・洗浄技術などについて解説いたします。

各種汚れに適した洗浄方法、洗浄性評価と洗浄理論

2012年8月28日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

医薬品製造設備における“洗浄しずらい箇所”への洗浄のコツ

2012年8月23日(木) 10時30分16時45分
東京都 開催 会場 開催

洗浄バリデーション実施ノウハウ

2012年7月26日(木) 10時20分17時10分
東京都 開催 会場 開催

LED照明器具の高安全性に向けた基板の放熱設計と実装技術

2012年6月26日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

LED照明器具、LED搭載商品の熱対策について基礎から解説し、基板の放熱設計、実装技術、信頼性試験について詳解いたします。

高薬理活性医薬品マルチプラント設備における“封じ込め”と新規工場および既存工程への導入を勘案した設計

2012年6月26日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、既存の設備を有効活用し、改造に各種制約を踏まえた設計する手法の一つとして、封じ込めの新手法について解説いたします。

クリーン化技術と表面清浄度管理

2012年6月6日(水) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、粗大粒子対策を中心にデモ機を使った実演を取り入れながら、効果的なクリーン化技術の導入を詳解いたします。

液体微粒化技術の基礎と測定・評価

2012年4月24日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、内燃機関の燃料噴射、噴霧塗装、半導体の精密洗浄、医薬品原料・製剤の製造、農薬散布など様々な産業において必要とされている液体微粒化技術の基礎と測定・評価技術を詳解いたします。

3極に対応した洗浄バリデーション実施と標準作業手順書作成・目視検査

2012年4月13日(金) 10時30分16時00分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、実施の流れ、洗浄作業手順書・バリデーション計画書・報告書などのドキュメント作成、教育訓練までを網羅して解説いたします。

マルチパーパスプラントの設計と洗浄バリデーション

2012年3月28日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

先端半導体製造における洗浄・乾燥技術の基礎と課題および最新動向

2012年3月28日(水) 10時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から世界最先端の最新動向まで、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説いたします。

クリーンルーム維持管理の必須項目と作業者教育

2012年1月31日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、クリーンルーム維持管理の基礎から解説し、改正された主要項目、環境モニタリング・アイソレータ・RABSについての要件を解説いたします。

封じ込め/アイソレータ事例と洗浄・バリデーションへの対応

2012年1月25日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、高活性物質の取り扱い・封じ込めの基礎から解説し、高活性物質の品質管理、最新の封じ込め・洗浄評価について詳解いたします。

超音波の基礎と最新技術

2012年1月23日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、超音波の基礎から解説し、洗浄・撹拌・表面改質などの応用、超音波導入のポイントについて詳解いたします。

最新通信機器に求められる洗浄技術

2011年12月21日(水) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、最新の通信機器実装基板の製造工程で発生している問題点と、対策として導入した洗浄技術について解説いたします。

3極に対応した洗浄バリデーション実施と標準作業手順書作成・目視検査

2011年11月30日(水) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションについて基礎から解説し、実施の流れ、洗浄作業手順書・バリデーション計画書・報告書などのドキュメント作成、教育訓練までを網羅して解説いたします。

GMP工場の設備適格性評価と保守管理 / 高活性物質の取り扱い・封じ込めと洗浄

2011年11月28日(月) 10時45分16時45分
2011年11月29日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、GMPの設備適格性評価・高活性物質の取扱のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 63,000円

各種汚れに適した洗浄方法、洗浄性評価と洗浄理論

2011年11月22日(火) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄のメカニズム、洗浄剤の長所・短所、汚れの質に応じた洗浄方法、洗浄結果の評価について分かりやすく解説いたします。

マイクロ・ナノバブル 超微細気泡の基礎~応用技術

2011年9月26日(月) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、マイクロバブル・ナノバブルの基礎から解説し、食品・医療・環境・農業・漁業と幅広い分野への応用可能性について詳解いたします。

洗浄の基礎とLED洗浄プロセス構築、その最適化

2011年8月25日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄の基礎から解説し、フラックス洗浄を中心に最新の洗浄技術について詳解いたします。

残留許容基準算出とそれに基づく洗浄方法設定

2011年7月29日(金) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄バリデーションの基礎から解説し、許容基準の設定、サンプリング、分析方法の設定、ドキュメントの作成について詳解いたします。

洗浄度評価技術と残存表面汚れの定量評価手法

2011年7月22日(金) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、洗浄度や残存表面汚れを評価する手法の開発と、環境負荷を低減するような水系洗浄方法の開発について、実例を交えて詳解いたします。

結晶シリコン太陽電池製造における洗浄・表面処理技術の効率化

2011年6月29日(水) 13時00分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、太陽電池シリコンウエハの洗浄技術について解説し、洗浄液の効果的な使用法、超音波洗浄について詳解いたします。

ウェットプロセス入門講座

2011年6月23日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ウェットプロセスの基礎から解説し、トラブルの原因と対応策について詳解いたします。

半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向

2011年6月17日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、半導体洗浄技術の基礎から解説し、現状の課題と解決策、最先端の最新動向までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。

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