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本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、汚染原因やクリーンルームの仕組み、やってはいけないこと、効果的な清掃・メンテナンス方法など、クリーンルームの維持管理にあたって理解しておきたい実践的な知識とノウハウを詳しく解説いたします。

本セミナーは、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、その改造方法、クリーンルームの運用方法、及び一般環境下においてもゴミ・異物不良でお困りの現場の改善も視野に入れて、クリーンルームの基礎から運用までを生産現場の不良削減手法及びその事例をご説明いたします。

本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。

本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

本セミナーでは、クリーンルームの基礎と汚染物質の性質と測定方法及び清浄度維持・管理の要点を、理論のほか実験・実測・経験に基づいた内容で説明いたします。

本セミナーでは、化粧品の微生物汚染について基礎から解説いたします。
また、処方を行うにあたっての防腐システムの設計法、化粧品等の微生物汚染の動向とその原因と対策も含めて解説いたします。

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

本セミナーでは、半導体の基礎、流体力学、電磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
また、半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でもスプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に生じる静電気障害への対策についても解説いたします。

本セミナーでは、30年にわたり講師が蓄積してきた、数多の現場の成功事例・失敗事例の経験則を体系化し、どのような現場にも適用可能な異物ゼロへのアプローチ法を解説いたします。

本セミナーでは、第1部では、使う側の立場に立ったクリーンルームのあり方、改造方法、運用方法、ゴミ異物対策について解説いたします。
第2部では、静電気対策資材やイオナイザーの性能評価、選定方法、設置方法まで現場のニーズに合わせて説明いたします。

本セミナーでは、講師が撮影した作業員の動作に伴う異物の発生動画、・無塵服・無塵靴・拭き取り材などの備品からの発塵や皮膚からの発塵・気流の流れなどを約50のオリジナルの可視化動画を交えながら、その発生要因から対策に至るまで科学的かつ平易に解説すると共にクリーン化の基礎技術を解説いたします。