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DSAリソグラフィへ向けたブロック共重合体の合成と自己組織化プロセス

DSAリソグラフィへ向けたブロック共重合体の合成と自己組織化プロセス

~次世代リソグラフィ技術として注目を集めるDSAリソグラフィの開発動向 / ブロックコポリマーの合成手法、微細で高精度なナノパターンの形成方法~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、次世代リソグラフィ技術として注目を集めるDSAリソグラフィについて取り上げ、ブロックコポリマーの合成手法、微細で高精度なナノパターンの形成方法、DSAリソグラフィの開発動向について解説いたします。

開催日

  • 2025年6月27日(金) 10時30分 16時15分

修得知識

  • ブロックコポリマーの自己組織化メカニズム
  • 誘導自己組織化による無欠陥なナノパターンの創成
  • リビングアニオン重合および得られるブロック共重合体の誘導自己組織化を利用したDSAリソグラフィの基礎
  • 開発した重合装置を用いたブロック共重合体の重合例
  • DSAリソグラフィへの展開
  • オリゴ糖鎖含有ブロックコポリマーの特徴、合成法
  • 水溶液中・固体中での自己組織化
  • バイオベース材料としての応用

プログラム

第1部 ブロックコポリマーの自己組織化メカニズムとその制御

(2025年6月27日 10:30〜12:00)

 本講座においては、ブロックコポリマーのミクロ相分離に関する基礎知識を概説するとともに、その自己組織化および自己組織化を制御する方法である誘導自己組織化による無欠陥なナノパターンの創成についても述べる。

  1. ブロックコポリマーのミクロ相分離
    1. ブロックコポリマーとは
    2. ブロックコポリマーのミクロ相分離の秩序無秩序転移
    3. 無秩序状態
    4. 秩序状態への動力学
    5. 秩序状態 – 弱編斥での自己組織化
    6. 秩序秩序転移
    7. 秩序状態 – 強編斥での自己組織化
  2. ブロックコポリマーの誘導自己組織化による高精度ナノパターンの創製
    1. ブロックコポリマー薄膜の自己組織化
    2. 誘導自己組織化
    3. Graphoepitaxy
    4. Chemical registration
    • 質疑応答

第2部 誘導自己組織化リソグラフィへ向けたブロックコポリマーの重合技術

(2025年6月27日 13:00〜14:30)

 DSA (誘導自己組織化:Directed Self-Assembly) 技術は低コストで微細なパターン形成が可能なため次世代のリソグラフィ技術として期待されている。また、現状のリソグラフィ技術とDSAを組み合わせることでより微細な規則的なパターン形成が可能となる。DSAプロセスはBCP (ブロックコポリマー:Block Copolymer) がミクロ相分離構造を形成する特徴を用いてパターンを形成する。BCPの自己組織化によって得られた相分離領域はポリマーのサイズ (分子量) と相関する。すなわち、ポリマーサイズの厳密な制御が必要となることから、DSAプロセスに適応させるポリマーはサイズをより精密に制御し、量産する技術が要求されている。我々のリビングアニオン重合技術を用いた取り組みについて紹介する。

  1. はじめに
  2. リビングアニオン重合
    1. リビングアニオン重合の概要
    2. 次世代リソグラフィー技術:DSA (Directed Self-Assembly) の紹介
    3. リビングアニオン重合で合成したポリマーのDSA応用
  3. 量産用重合装置
    1. 装置の概要
    2. PS-b-PMMAの合成
  4. High-χ材料
    1. χパラメータ
    2. High-χ材料の合成
  5. 今後の課題
    • 質疑応答

第3部 オリゴ糖鎖含有ブロックコポリマー:合成と応用

(2025年6月27日 14:45〜16:15)

 多くのブロックコポリマーは石油系の合成高分子から構成されている。本講座ではブロックコポリマーの一成分としてオリゴ糖を使ったオリゴ糖鎖含有ブロックコポリマーに焦点を当て、その合成法や溶液・固体中での自己組織化について解説する。また、それらがナノ材料だけでなく、バイオベース高分子材料など多様な分野に応用できることを紹介する。

  1. 糖糖を使う意義と糖糖・合成高分子のハイブリッド化
  2. オリゴ糖鎖含有ブロックコポリマーの水中自己組織化
  3. オリゴ糖鎖含有ブロックコポリマーの応用
    1. バイオベースエラストマーの開発
    2. バイオプラ向け相溶化剤の開発
    3. 微細なナノパターン構築
    • 質疑応答

講師

  • 竹中 幹人
    京都大学 化学研究所
    教授
  • 濵口 隆彰
    株式会社 堀場エステック 開発本部 要素技術開発部 材料チーム
    チームリーダー
  • 磯野 拓也
    北海道大学 大学院 工学研究院 応用化学部門
    准教授

主催

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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
  • 5名様以降は、1名あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
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    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 200,000円(税別) / 220,000円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 230,000円(税別) / 253,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

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