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高分子・ポリマー微粒子の生成から粒子径制御と中空化技術

高分子・ポリマー微粒子の生成から粒子径制御と中空化技術

オンライン 開催

視聴期間は2023年2月22日〜3月1日を予定しております。
お申し込みは2023年2月24日まで承ります。

概要

本セミナーでは、高分子微粒子の粒子径制御から、ナノ粒子を合成するための反応器の設計方針、中空高分子微粒子を炭素化して、中空カーボンナノ粒子の合成法について解説いたします。

開催日

  • 2023年2月24日(金) 13時00分 2023年3月1日(水) 17時00分

受講対象者

  • 機能性高分子・材料化学に関わる方

修得知識

  • ソープフリー乳化重合法で調製される高分子コロイドの核生成、粒子成長メカニズム
  • 原子間力顕微鏡 (AFM) を分析ツールとして使用することができる
  • 高分子微粒子の粒子径制御の指針の立て方
  • 複合微粒子,中空微粒子の設計指針の立て方
  • ナノ粒子合成のための反応器の設計方針の立て方

プログラム

 ソープフリー乳化重合法で調製される高分子コロイドの核生成および粒子成長過程を原子間力顕微鏡 (AFM) によりその場観察した結果を事例に、粒子生成・成長メカニズムについて分子レベルで解説します。また、AFMを分析ツールとしての活用方法について理解することができます。
 分子レベルのメカニズムに従って、高分子微粒子の粒子径制御に対する指針を立てることができます。最近開発したスポンジリアクターによるナノ粒子合成の事例を紹介し、ナノ粒子を合成するための反応器の設計方針を立てることができます。
 また、高分子微粒子表面でゾル – ゲル反応を起こせば、簡単にシリカシェルを構築することができます。高分子コアを取り除くことで中空シリカナノ粒子が単分散で得られるようになります。高分子の内部に油溶性開始剤を含ませ、低温加熱すると中空化することも可能です。この中空高分子微粒子を炭素化して、中空カーボンナノ粒子の合成法について紹介いたします。

  1. ソープフリー乳化重合法
    1. 原子間力顕微鏡 (AFM) の原理
    2. 核生成過程のその場観察
    3. 粒子成長過程のその場観察
    4. ソープフリー乳化重合系の分子レベルメカニズム
  2. 高分子微粒子の粒子径制御法
    1. 電解質を利用したマイクロ粒子の製造
    2. 静電相互作用を強化したナノ粒子の製造
    3. 高分子微粒子ナノサイズ化のためのスポンジリアクター
  3. 高分子微粒子の表面形態制御と中空ナノ粒子への応用
    1. 高分子微粒子表面形態の制御
    2. 高分子ナノ粒子の中空化
    3. 高分子微粒子を利用したシリカまたはカーボン中空ナノ粒子の合成
    • 質疑応答

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
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  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2023年2月22日〜3月1日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
本セミナーは終了いたしました。

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