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セミナーの一覧

木曜日, 7月 5 2018

特許出願 (化学・材料系) における拒絶理由通知への対応

2018年7月5日(木) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場 開催

高分子結晶化の基礎と解析技術

2018年7月5日(木) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、高分子結晶の構造と結晶化プロセスの特徴について解説し、諸条件により最終的にどのような構造形成につながるか、実例を交えながら紹介いたします。
また、高分子の結晶化メカニズムの解析方法、新規解析技術についても質問を受け付けいたします。

熱分析入門

2018年7月5日(木) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、熱分析の原理から測定条件の決め方・考え方、測定チャートの見方、装置メンテナンスまで実践の場で役立つノウハウを詳解いたします。

HPLC (高速液体クロマトグラフィー) 実務講座

2018年7月5日(木) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、HPLC (高速液体クロマトグラフィー) について基礎から解説し、「負荷圧」「ベースライン」「感度」「再現性」 「ピーク」「カラム」など、各種ポイントごとのトラブル事例から対応策を解説いたします。

センサフュージョンによる周辺環境認識と完全自動運転への応用

2018年7月5日(木) 10時30分16時00分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、歩行者検出、外界認識、膨大な演算量の処理など、自動車への人工知能応用の最新動向について解説いたします。

コンビネーションプロダクトの特許戦略

2018年7月5日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

スラリーを上手に取り扱うための総合知識

2018年7月5日(木) 10時30分16時30分
京都府 開催 会場 開催

本セミナーでは、粒子の分散状態の評価について、その手法、分散安定性に影響を及ぼす様々な要因などの基礎から解説し、実例を用いた種々のスラリー特性評価、適切な分散剤の選定などの応用的な内容、また、最新動向について紹介いたします。

レジストパターニングを含むフォトリソグラフィープロセスの最適化とその評価

2018年7月5日(木) 12時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、レジスト塗布技術の基礎から密着性を含む現像特性を説明し、レジスト剥離工程において従来の剥離技術、及び新規な環境に優しいレジスト剥離 (除去) 技術について紹介いたします。

ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応の制御

2018年7月5日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

ドライエッチング技術の基礎とプラズマ・表面反応制御 / 最新動向とプラズマダメージ、アトミックレイヤーエッチング (2日間)

2018年7月5日(木) 13時00分16時30分
2018年7月6日(金) 9時30分13時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ドライエッチングの基礎から最先端のアトミックレイヤーエッチング (ALE) までを詳説いたします。

木曜日, 7月 5 2018