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レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策
レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策
～レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など～
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
概要
本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。
開催日
- 2017年9月21日(木) 12時30分 ～ 16時30分
受講対象者
- レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売に携わる方
- 半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方
修得知識
- レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
- レジストの品質管理手法
- レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応
- リソグラフィープロセスの最適化
- リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応
- 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応
プログラム
- リソグラフィの基礎
- リソグラフィーとは
- 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
- レジスト材料とその高性能化
- パターンニング用レジスト材料 (総論)
- G線、i線用レジスト
- KrF用レジスト
- ArFおよびArF液浸用レジスト
- EUV用レジスト
- レジスト製造技術と品質管理
- レジスト製造技術
- レジストの性能安定化技術
- 品質管理 – その項目と方法
- レジスト材料の評価技術
- 性能評価
- 品質評価
- シミュレーション技術
- レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
- 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
- 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
- 顧客対応の方法
- 20nm以下のリソグラフィー技術
- ダブルパターンニング技術
- DSA技術とその材料
- ナノインプリント技術
- 今後のリソグラフィー技術
- 質疑応答
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
- 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。
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